真空鍍膜技術(張以忱)/真空工程技術叢書 pdf epub mobi txt 電子書 下載 2025

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張以忱等編著 著

圖書標籤:

• 真空鍍膜
• 薄膜技術
• 材料科學
• 錶麵工程
• 真空技術
• 物理氣相沉積
• PVD
• 鍍膜工藝
• 工程技術
• 張以忱

店鋪： 文軒網旗艦店

齣版社： 冶金工業齣版社

ISBN：9787502450205

商品編碼：1026406834

齣版時間：2009-10-01

作  者:張以忱 等編著 著作 張熙瑩 譯者 定  價:59 齣 版 社:冶金工業齣版社 齣版日期:2009年10月01日 裝  幀:平裝 ISBN:9787502450205 ●暫無

內容簡介

暫無

《真空鍍膜技術（張以忱）/真空工程技術叢書》的簡介 本書全麵而深入地闡述瞭真空鍍膜技術的核心原理、關鍵工藝、設備構成以及在各個領域的廣泛應用。 第一部分：真空鍍膜技術基礎 本部分將從最基礎的概念齣發，為讀者構建一個堅實的理論框架。首先，我們將詳細介紹“真空”的定義、重要性以及在鍍膜過程中的關鍵作用。從低真空、高真空到超高真空，不同真空度的産生原理、維持方法以及對鍍膜過程的影響都將一一剖析。我們將深入探討真空泵係統的組成、工作原理，包括機械泵、擴散泵、渦輪分子泵、離子泵等，並分析如何根據不同的工藝需求選擇閤適的真空係統，以及如何監測和控製真空度。 接著，本書將聚焦於“鍍膜”這一核心概念。我們將詳細解釋薄膜的形成機製，從原子或分子的沉積到薄膜結構的生長，包括物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）兩大類。對於PVD，我們將深入講解其主要方法，包括： 蒸發鍍膜： 詳細介紹電阻蒸發、電子束蒸發、感應蒸發等不同蒸發源的工作原理、優缺點，以及它們在不同材料鍍膜中的適用性。例如，電阻蒸發如何利用加熱絲的焦耳熱來熔化並蒸發金屬材料；電子束蒸發如何利用高能電子束轟擊靶材，實現高效、高純度的蒸發；感應蒸發如何利用高頻電磁場感應加熱來熔化和蒸發材料。 濺射鍍膜： 詳細介紹直流（DC）濺射、射頻（RF）濺射、磁控濺射、反應濺射等濺射技術。我們將深入分析濺射過程中的物理機製，如等離子體的産生、離子轟擊靶材、靶材原子被濺射齣來以及在基底上的沉積過程。對於磁控濺射，我們將解釋磁場如何增強等離子體密度，提高濺射效率和沉積速率。對於射頻濺射，我們將介紹其如何剋服絕緣體靶材濺射的難題。反應濺射則會重點介紹如何通過引入反應氣體，在濺射過程中形成化閤物薄膜。 對於CVD，我們將詳細介紹其基本原理，即通過化學反應在基底錶麵沉積薄膜。我們將分類講解不同的CVD方法，包括： 常壓CVD（APCVD）： 適用於對膜厚均勻性要求不高的場閤，原理簡單，成本較低。 低壓CVD（LPCVD）： 在較低的壓力下進行，可以獲得更高質量、更均勻的薄膜，尤其適用於半導體製造。 等離子體增強CVD（PECVD）： 利用等離子體來促進反應，可以在較低的溫度下實現薄膜沉積，適用於對熱敏感的基底。 金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）： 使用金屬有機化閤物作為前驅體，是製備高質量Ⅲ-Ⅴ族化閤物半導體薄膜的關鍵技術。 在基礎部分，我們還將重點介紹薄膜的生長模式，如島狀生長、層狀生長、階梯狀生長等，以及影響薄膜結構的因素，如襯底溫度、沉積速率、氣體壓力、基底錶麵狀態等。此外，我們將初步探討薄膜的錶徵技術，如膜厚測量、晶體結構分析、錶麵形貌觀察等，為後續的工藝優化和質量控製奠定基礎。 第二部分：關鍵工藝與設備 本部分將深入探討實際真空鍍膜過程中涉及的關鍵工藝參數和核心設備。 2.1 預處理工藝： 在進行真空鍍膜之前，基底材料的預處理至關重要。我們將詳細介紹各種預處理方法，包括： 清洗： 涵蓋溶劑清洗（有機溶劑、酸堿溶液）、超聲波清洗、等離子體清洗等。我們將分析不同清洗方法對去除錶麵汙染物（如油汙、氧化物、顆粒等）的有效性，以及如何避免對基底造成損傷。 錶麵改性： 介紹等離子體活化、離子束刻蝕、化學處理等方法，用於改變基底錶麵能、增加錶麵粗糙度或引入官能團，以提高薄膜與基底的結閤力。 2.2 鍍膜工藝參數控製： 精確的工藝參數控製是獲得高質量薄膜的關鍵。我們將詳細分析以下關鍵參數的影響： 真空度： 前文已述，此處將結閤具體鍍膜過程，強調不同工藝對真空度的具體要求。 襯底溫度： 襯底溫度直接影響薄膜的結晶度、晶粒尺寸、緻密性以及應力。我們將討論不同材料和工藝對襯底溫度的優化範圍。 沉積速率： 沉積速率影響薄膜的緻密性、均勻性和錶麵形貌。過快或過慢的沉積速率都可能導緻薄膜質量下降。 工作氣體種類與壓力： 在PVD和CVD過程中，工作氣體的選擇及其壓力是至關重要的。例如，在磁控濺射中，Ar是常用的濺射氣體，而O2、N2等反應氣體則用於製備氧化物或氮化物薄膜。CVD中前驅體氣體的種類、流量以及稀釋氣體的選擇直接決定瞭沉積薄膜的成分和結構。 靶材（蒸發源）的功率/溫度： 決定瞭蒸發或濺射的原子/分子通量。 基底偏壓： 在濺射過程中施加的基底偏壓可以提高薄膜的緻密性、附著力，並影響薄膜的導電性等。 2.3 真空鍍膜設備構成： 我們將係統介紹各種真空鍍膜設備的主要組成部分： 真空室： 詳細介紹不同形狀、材質（如不銹鋼）、設計（如鏇轉機構、觀察窗）的真空室，以及其密封要求。 真空係統： 如前文所述，重點關注與具體鍍膜設備配套的真空泵組、閥門、真空計等。 鍍膜源： 詳細介紹各種蒸發源（電阻加熱舟、燈絲、電子槍）和濺射源（磁控濺射槍、射頻濺射槍）的結構、原理和性能特點。 襯底轉盤/加熱器： 介紹用於承載和加熱基底的裝置，以及其轉速、溫度控製的精度。 氣體供給係統： 介紹用於精確控製工作氣體流量和壓力的係統，包括質量流量控製器（MFC）、手動/自動閥門等。 電源與控製係統： 介紹用於為鍍膜源提供能量的電源，以及用於監測和控製整個工藝流程的自動化控製係統。 第三部分：薄膜性能錶徵與質量控製 本部分將聚焦於如何評估和保證真空鍍膜薄膜的質量。 3.1 薄膜性能錶徵技術： 我們將詳細介紹常用的薄膜性能錶徵技術，這些技術是優化工藝、理解薄膜結構與性能關係的關鍵： 膜厚測量： 介紹颱階法（如觸針式測厚儀）、光學法（如橢圓偏振儀、紫外-可見分光光度計）以及掃描電子顯微鏡（SEM）截麵觀察等方法。 錶麵形貌與結構分析： 光學顯微鏡： 用於觀察宏觀缺陷。 掃描電子顯微鏡（SEM）： 提供高分辨率的錶麵形貌圖像，並可結閤能譜儀（EDS）進行元素成分分析。 原子力顯微鏡（AFM）： 提供納米尺度的錶麵形貌信息，可測量錶麵粗糙度。 X射綫衍射（XRD）： 分析薄膜的晶體結構、晶粒尺寸、取嚮以及物相組成。 透射電子顯微鏡（TEM）： 提供高分辨率的內部微觀結構信息，包括晶界、位錯等。 成分分析： X射綫光電子能譜（XPS）： 分析薄膜錶麵元素的化學狀態和組成。 俄歇電子能譜（AES）： 提供錶麵元素組成和空間分布信息。 二次離子質譜（SIMS）： 進行深度剖析，分析薄膜的深度成分分布。 能量色散X射綫光譜（EDS）： 常與SEM聯用，進行元素成分定性或定量分析。 光學性能測量： 紫外-可見分光光度計： 測量薄膜的透射率、反射率，進而計算吸收率和摺射率、消光係數等光學常數。 光澤度計、霧度計： 評估薄膜的光學外觀。 力學性能測試： 硬度計： 如維氏硬度計、納米壓痕儀，測試薄膜的硬度。 附著力測試： 如劃痕法、百格法，評估薄膜與基底的結閤強度。 內應力測試： 如彎麯法，測量薄膜內部産生的應力。 電學性能測試： 四探針法： 測量薄膜的電阻率。 霍爾效應測量： 確定載流子類型、濃度和遷移率。 I-V特性麯綫測量： 評估器件性能。 3.2 質量控製與工藝優化： 在瞭解瞭各種錶徵技術後，本書將指導讀者如何將這些信息應用於實際的質量控製和工藝優化。我們將討論： 工藝參數與薄膜性能的關係： 通過實驗設計（DOE）等方法，係統研究工藝參數（如溫度、壓力、功率、氣體流量等）對薄膜厚度、均勻性、緻密性、附著力、光學性能、電學性能等的影響規律。 常見鍍膜缺陷及其産生原因與解決方法： 例如，針孔、起泡、剝落、夾雜物、錶麵粗糙等缺陷的成因分析，以及相應的工藝調整和改進措施。 過程監控與閉環控製： 介紹在綫監測技術（如石英晶體微天平）以及自動化控製係統在保證産品質量中的作用。 可靠性評估： 討論薄膜在實際應用中可能遇到的環境因素（如濕熱、光照、化學腐蝕等）對其性能的影響，以及相關的加速壽命試驗方法。 第四部分：真空鍍膜技術的應用領域 本書最後一部分將展現真空鍍膜技術在現代工業中的廣泛應用，通過具體案例說明其重要性和不可替代性。 光學領域： 增透膜（AR Coating）： 用於照相機鏡頭、望遠鏡、顯示屏等，減少反射，提高透光率。 反射膜（Reflective Coating）： 用於鏡子、激光器反射鏡、太陽能電池等。 濾光膜（Filter）： 用於光學儀器、顯示設備、傳感器等，選擇性地透過或阻擋特定波長的光。 偏振膜（Polarizing Film）： 用於液晶顯示器（LCD）等。 電子與半導體領域： 金屬導綫和接觸層： 如鋁、銅、金等薄膜在集成電路中的互連。 電介質層： 如氧化矽、氮化矽薄膜，用於絕緣和柵極氧化層。 半導體薄膜： 如多晶矽、非晶矽、化閤物半導體薄膜（GaAs、GaN等），是製造晶體管、LED、激光器等的核心材料。 磁性薄膜： 用於硬盤驅動器、磁頭、磁傳感器等。 裝飾與防護領域： 耐磨塗層： 如氮化鈦（TiN）、類金剛石（DLC）薄膜，用於刀具、模具、手錶、汽車零部件等，提高其耐磨性和硬度。 耐腐蝕塗層： 保護金屬錶麵免受化學腐蝕。 裝飾性塗層： 賦予産品獨特的光澤和顔色，如PVD金、彩色TiN等。 能源領域： 太陽能電池： 透明導電薄膜（如ITO）、背反射膜、減反射膜等。 平闆顯示器： ITO導電膜、彩色濾光膜、有機發光二極管（OLED）材料等。 低輻射（Low-E）玻璃： 用於建築節能，通過鍍上一層極薄的金屬或金屬氧化物薄膜來反射紅外綫。 生物醫藥領域： 生物相容性塗層： 用於醫療植入物（如人工關節、心髒支架），提高其生物相容性和抗血栓性。 抗菌塗層： 利用銀、二氧化鈦等材料的抗菌性能。 其他領域： 觸屏顯示： 導電膜（ITO、AgNWs、IGZO等）。 氣體分離膜。 超硬塗層。 本書力求通過係統性的知識體係、詳實的工藝細節、豐富的應用實例，為讀者提供一個全麵、深入、實用的真空鍍膜技術學習平颱，幫助相關領域的科研人員、工程技術人員和學生掌握核心技術，解決實際問題，推動技術創新與産業發展。

評分☆☆☆☆☆

我一直對材料科學和錶麵處理技術非常感興趣，而真空鍍膜技術正是其中一個非常關鍵且具有廣泛應用前景的領域。從手機屏幕的疏油層，到光學鏡頭的增透膜，再到半導體芯片的金屬化層，幾乎無處不見它的身影。因此，我一直渴望找到一本能夠全麵、係統地介紹這項技術的書籍。這本書的齣現，讓我眼前一亮。《真空鍍膜技術》這個書名直接點明瞭主題，而“真空工程技術叢書”則暗示瞭其專業性和係統性。我尤其看重書中是否能深入剖析不同真空鍍膜方法的原理，例如物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）的異同，以及它們的優缺點和適用範圍。如果書中還能涉及一些常用的真空鍍膜設備，例如磁控濺射、離子鍍等，並對它們的結構、工作原理及操作要點進行說明，那就更完美瞭。我希望這本書能夠幫助我建立起對真空鍍膜技術完整的知識框架，並為我日後深入研究特定領域的鍍膜技術打下堅實的基礎。

評分☆☆☆☆☆

這本書的齣版，對於我這個在半導體行業摸爬滾打瞭多年的技術人員來說，無疑是一個振奮人心的消息。真空鍍膜技術在半導體製造中扮演著至關重要的角色，從金屬互連到柵極的形成，都離不開它。我迫切希望這本書能夠提供關於主流半導體製造工藝中真空鍍膜應用的詳盡介紹。例如，書中是否會深入探討 PVD（物理氣相沉積）在金屬化層製備中的具體應用，包括濺射不同金屬靶材（如鋁、銅、鎢）的工藝細節和麵臨的挑戰？又比如，CVD（化學氣相沉積）在介質層和半導體層生長中的作用，以及不同氣體前驅體的選擇和反應機理？我非常期待書中能夠提供關於這些工藝的詳細參數設置、關鍵控製點以及可能齣現的缺陷分析和解決方案。一本能夠貼近實際生産需求的專業書籍，對於我們一綫技術人員的日常工作，以及解決生産中的疑難雜癥，具有極大的價值。

評分☆☆☆☆☆

作為一名即將步入職場的大學畢業生，我對未來工作所需的專業知識充滿渴望。我的專業方嚮與材料科學和工程緊密相關，而真空鍍膜技術是這個領域中一個非常重要且具有挑戰性的方嚮。《真空鍍膜技術》這本書，我猜想會是我的“案頭必備”。我希望書中能夠清晰地闡述真空鍍膜的各個環節，包括真空係統的組成和原理，鍍膜源的設計和選擇，以及薄膜生長過程中的關鍵參數控製。特彆是，我希望能詳細瞭解各種鍍膜技術（如磁控濺射、蒸發鍍膜、離子束輔助鍍膜等）的具體操作步驟和注意事項。如果書中還能包含一些關於薄膜性能測試和錶徵的介紹，例如膜厚測量、成分分析、光學性能測試等，那將是極大的幫助。我期望這本書能夠幫助我快速掌握真空鍍膜的核心知識，為我未來的工作打下堅實的基礎，讓我能夠自信地麵對實際的工程挑戰。

評分☆☆☆☆☆

我是一名從事光電材料研發的科研人員，真空鍍膜技術是我們日常工作中不可或缺的一環。過去，我們依賴於零散的文獻和經驗積纍來完成鍍膜任務，常常會遇到一些瓶頸問題。因此，我一直期望能有一本權威、全麵的書籍來指導我們的工作。《真空鍍膜技術》這本書的齣現，讓我看到瞭突破現狀的希望。我尤其關注書中是否會詳細闡述各種鍍膜方法的物理機製，例如濺射過程中的等離子體鞘層形成，蒸發過程中的分子束控製，以及離子束輔助鍍膜的能量調控等。這些深層次的理解，對於我們優化工藝參數，提高膜層性能至關重要。此外，我也希望書中能對不同鍍膜設備（如Sputter、Evaporation、ALD等）的優缺點和適用範圍進行詳細的比較分析，幫助我們選擇最適閤我們研發需求的設備。如果書中還能提供一些關於膜層錶徵的常用方法和數據分析的技巧，那就更完美瞭。

評分☆☆☆☆☆

作為一名對材料錶麵改性技術充滿好奇的學生，我一直在尋找一本能夠係統性地介紹真空鍍膜技術，並能激發我進一步研究興趣的書籍。《真空鍍膜技術》這個書名和作者的專業背景，讓我對這本書充滿瞭期待。我希望這本書能夠以一種循序漸進的方式，從真空的基本概念講起，然後逐步介紹各種主要的真空鍍膜技術。我特彆想瞭解，書中是否會詳細講解不同鍍膜方法的原理，例如離子轟擊的機製，等離子體的産生和特性，以及原子/分子在真空中的傳播和沉積過程。更重要的是，我希望書中能夠給齣一些實際的例子，說明真空鍍膜技術是如何在各個領域發揮作用的，比如在光學、電子、生物醫藥、裝飾等領域，它們各自的應用特點和優勢是什麼。如果書中還能提及一些新興的真空鍍膜技術，例如原子層沉積（ALD）等，並對其發展前景進行展望，那將是極大的驚喜。

評分☆☆☆☆☆

作為一名剛入行不久的工程師，我對真空鍍膜技術可以說是知之甚少，很多概念都停留在書本和零散的資料中，缺乏係統性的認知。所以，當我看到《真空鍍膜技術》這本書時，就覺得這可能是我急需的那塊“敲門磚”。書的篇幅看起來不算薄，這讓我既有點忐忑又有些欣喜。忐忑的是擔心內容過於晦澀難懂，欣喜的是這說明內容會比較全麵和深入，能夠解答我心中的諸多疑惑。我特彆關注書中是否會詳細介紹各種真空鍍膜的原理、工藝流程以及設備選型等基礎知識。因為隻有打好基礎，纔能更好地去理解更復雜的應用和發展趨勢。同時，我也希望書中能夠包含一些實際案例分析，這對於我們這些實踐者來說尤為重要，能夠讓我們更快地將理論知識轉化為實際操作能力，避免走彎路。這本書的齣現，無疑是為我提供瞭一個係統學習的機會，我期待它能幫助我建立起紮實的理論體係，為我未來的職業發展打下堅實的基礎。

評分☆☆☆☆☆

說實話，我之前對真空鍍膜的理解非常有限，僅限於一些模糊的概念。但這本書的齣現，徹底改變瞭我的看法。它不僅僅是一本技術手冊，更像是一本帶領我探索未知世界的指南。書中的內容，我猜想一定非常詳盡，涵蓋瞭從基礎理論到實際應用的各個方麵。我非常期待書中能夠詳細解釋真空環境的形成和維持機製，以及各種氣體分子的行為在真空中的特殊性。要知道，真空是進行鍍膜的關鍵，而理解真空本身，就像是理解一個建築的地基。此外，我還在想，書中是否會涉及不同鍍膜材料的特性，以及如何根據不同的基材和應用需求來選擇閤適的鍍膜材料和工藝？例如，在光學領域，對膜層的摺射率、吸收率等都有極其苛刻的要求；而在電子領域，則更注重膜層的導電性、穩定性和互聯性。這本書若能在這方麵提供深入的解讀，那我將受益匪淺。

評分☆☆☆☆☆

這本書的裝幀設計實在是很吸引人，封麵用瞭很有質感的啞光紙，觸感溫潤，封麵上的“真空鍍膜技術”幾個字燙金處理，在光綫下泛著低調而耀眼的金光，瞬間就提升瞭整本書的檔次。整個係列“真空工程技術叢書”的命名也非常專業，一看就知道是行業內的權威之作。我平時對這類技術書籍不太感冒，總覺得枯燥乏味，但這本書的封麵設計給瞭我一種全新的感受，它不像我之前接觸過的很多技術書那樣，隻追求內容的深度而忽略瞭視覺呈現。這種對細節的考究，讓我開始對內容本身充滿瞭期待。我迫不及待地想翻開它，看看裏麵的內容是否和它精美的外錶一樣令人驚艷。尤其是我看到作者是張以忱，之前在一些行業論壇上聽到過他的名字，據說在真空鍍膜領域很有建樹。這讓我更加確信，這本書一定蘊含著豐富的知識和寶貴的經驗，值得我深入研讀。我希望這本書能帶我打開真空鍍膜技術的大門，讓我能夠從零開始，逐步理解這項復雜而迷人的技術。

評分☆☆☆☆☆

當我看到這本書的標題和作者信息時，我首先想到的是它在理論深度和實踐指導方麵可能達到的高度。張以忱這個名字本身就自帶光環，我相信他在這本《真空鍍膜技術》中傾注瞭他多年的心血和寶貴的經驗。我猜想，這本書的內容會非常紮實，可能從真空的基本原理講起，逐步深入到各種真空鍍膜技術的細節。我特彆想知道，書中是否會詳細介紹各種鍍膜方法的物理或化學基礎，比如原子/分子在真空中的運動軌跡，能量傳遞方式，以及它們與基底錶麵的相互作用過程。這對於理解鍍膜的本質至關重要。同時，我也希望書中能包含一些關鍵工藝參數的講解，例如真空度、靶材功率、氣體流量、襯底溫度等，以及這些參數對鍍膜質量的影響。如果書中還能提供一些常用的鍍膜設備故障排除和維護的建議，那這本書的實用價值將得到極大的提升。

評分☆☆☆☆☆

我一直對精密製造和先進材料領域抱有濃厚的興趣，而真空鍍膜技術無疑是這兩者交叉的精髓所在。這本書的問世，填補瞭我在這方麵的知識空白。我非常希望這本書能夠詳細地解釋真空環境對鍍膜過程的重要性，比如為何需要高真空纔能保證膜層的純淨度和均勻性，以及真空度對不同鍍膜方法的具體影響。此外，我對不同鍍膜方法的物理原理非常感興趣。書中是否會深入剖析物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）等主流技術？例如，PVD中的濺射和蒸發各有何優劣，分彆適用於哪些場景？CVD中，不同反應氣體如何協同作用，形成所需的薄膜？我尤其關注書中是否會提供關於設備選型、工藝優化以及膜層質量控製方麵的指導。一本能夠幫助我理解如何“做”齣高質量真空鍍膜的書，對我來說具有非凡的意義。

評分☆☆☆☆☆

雖然價格不是最實惠的，但物流還好，比較快。

評分☆☆☆☆☆

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評分☆☆☆☆☆

還不錯

評分☆☆☆☆☆

看起來還ok，紙質一般。。

評分☆☆☆☆☆

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好

評分☆☆☆☆☆

送貨很快，不錯不錯，正在學習

評分☆☆☆☆☆

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