正版 晶體結構精修-晶體學者的SHELXL軟件指南 （美）馬勒 陳昊鴻 高等教育齣版社 pdf epub mobi txt 電子書 下載 2025

簡體網頁||繁體網頁

☆☆☆☆☆

陳昊鴻 譯

圖書標籤:

• 晶體學
• SHELXL
• 晶體結構解析
• X射綫衍射
• 結構精修
• 化學
• 材料科學
• 高等教育
• 軟件教程
• 馬勒
• 陳昊鴻

店鋪： 世紀恒悅圖書專營店

齣版社： 高等教育

ISBN：9787040288803

商品編碼：27210928157

叢書名： 晶體結構精修--晶體學者的SHELXL軟件指

開本：16

齣版時間：2010-03-01

 

內容推薦 本書詳細介紹瞭晶體結構精修中的常見問題及其處理技巧，采用具體示例的方式加以說明。本書使用晶體學領域內享有盛譽並廣泛使用的精修軟件——SHELXL。對小分子晶體結構精修中的加氫、原子類型指定、無序、贋對稱、孿晶、贋像等方麵進行瞭闡述，討論瞭小分子晶體結構驗證的必要性和手段，同時對蛋白質等生物大分子的精修和結構驗證也進行瞭概述。書中每個示例的原始數據和各步精修操作的結果文件均附於隨書光盤，方便讀者自行練習使用。本書有助於促進對晶體結構精修知識的理解和運用，掌握先進的結構解析工具，提高晶體結構測定的技術水平。本書可以作為具有初步x射綫晶體結構測定基礎、能運行相關軟件的入門者的進修教材，也可以作為相關研究人員的參考書。 目錄 1 SHELXL
1.1 SHELX程序包
1.1.1 SHELXTL和其他程序
1.2 SHELXL
1.2.1 程序組成
1.2.2 指令文件name.ins
1.2.3 衍射數據文件name.hkl
1.2.4 SHELXL中的數據閤並
1.2.5 連通性錶
2 晶體結構精修
2.1 小二乘精修
2.1.1 精修應基於F還是F2——這會成為問題嗎?
2.2 弱數據點和高分辨率截斷
2.3 殘差因子
2.4 參數
2.5 約束
2.5.1 位置占有率因子
2.5.2 特殊位置約束
2.5.3 剛性基團約束
2.5.4 浮動原點約束
2.5.5 氫原子
2.5.6 SHELXL中的約束用法
2.6 限製
2.6.1 幾何限製
2.6.2 位移參數的限製
2.6.3 其他限製
2.7 SHELXL中的自由變量
2.8 結果
……
3 氫原子
4 原子類型的指定
5 無序
6 贋對稱
7 孿晶
8 贋像
9 結構驗證
10 蛋白質精修
11 蛋白質結構的（交叉）驗證
12 總論
參考文獻
進階讀物
索引
光盤文件勘誤說明

 

《晶體結構精修：從基礎到前沿的實踐解析》 作者群： 結構化學資深專傢及多位晶體學應用研究者 齣版社： 科學技術文獻齣版社 頁數： 約 680 頁 定價： 人民幣 188.00 元 --- 內容簡介 本書《晶體結構精修：從基礎到前沿的實踐解析》，旨在為從事材料科學、化學、物理學、礦物學及相關領域的研究人員、研究生和高年級本科生提供一個全麵、深入且高度實用的晶體結構精修理論與實踐指南。本書聚焦於結構數據的優化處理、缺陷分析以及高級結構模型的構建，力求彌閤理論知識與實際操作之間的鴻溝。 本書的結構設計遵循“由淺入深，理論與實踐並行”的原則，涵蓋瞭晶體學基礎理論的係統迴顧、實驗數據（主要是X射綫衍射數據）的預處理流程，核心的結構因子計算與最小二乘精修方法，以及復雜結構體係的精修策略。 第一部分：晶體學基礎與數據準備 本部分首先對晶體學基本概念進行迴顧，重點強化對稱性、倒易空間、布拉格定律的實際意義。隨後，本書將大量篇幅投入到原始衍射數據質量控製的環節。 數據采集與預處理： 詳細介紹瞭不同類型衍射儀（單晶、粉末）的數據采集流程，重點闡述瞭積分處理、背景扣除、洛倫茲和偏振因子校正等關鍵步驟。不同數據采集平颱（如：Bruker、Rigaku、Oxford等）的常見問題及解決方案將進行案例分析。 結構確定與初步修正： 闡述瞭從數據到初步結構模型的轉變過程，包括Patterson函數和直接法在初始結構確定中的應用，以及如何利用電子密度圖進行原子位置的初步修正。 第二部分：結構精修的理論基石與核心算法 精修是獲取高精度結構參數的關鍵步驟。本部分深入剖析瞭精修背後的數學原理。 最小二乘法在結構精修中的應用： 詳細推導瞭基於最小二乘原理的結構因子（$F_o$ 與 $F_c$）的殘差函數最小化過程。重點討論瞭權重函數（Weighting Scheme）的選擇對精修結果穩定性和精度的影響。 參數空間管理： 探討瞭如何處理原子坐標、各嚮異性熱振動參數、占有率因子、化學計量比（如溶劑或缺陷位點）以及原子散射因子（Scattering Factors）的選擇與修正。強調瞭不同參數間可能存在的共綫性和對精修收斂性的影響。 擬閤優度指標解析： 不僅介紹瞭$R$因子（$R_{work}, R_{free}$）的計算，更深入探討瞭殘差電子密度圖的解釋，如何通過這些指標判斷模型是否準確反映瞭真實結構，以及如何避免過擬閤（Overfitting）。 第三部分：復雜結構精修的挑戰與前沿策略 現代晶體學研究常常麵對具有高度復雜性的體係，本部分專門針對這些挑戰提供實用的精修策略。 粉末衍射精修（Rietveld Refinement）： 鑒於粉末衍射在材料研究中的廣泛應用，本書用專門章節詳述瞭Rietveld方法。內容包括：晶胞參數、原子位置、晶體缺陷、微觀應變、形貌因子（Size-Strain Analysis）的聯閤精修。重點講解瞭如何處理多相混閤物和衍射峰重疊問題。 缺陷結構與無序： 詳細討論瞭如何通過占有率模型（Occupancy Models）和位置分裂模型（Split Position Models）來描述晶體中的點缺陷、位錯、以及原子位點的統計學無序（如扭麯的有機配體或介電材料中的離子跳躍）。本書提供瞭具體的實例指導如何將這些復雜模型引入到精修計算中。 磁性結構精修： 對於研究磁性材料（如抗鐵磁、亞鐵磁體係）的研究者，本書闡述瞭如何結閤中子衍射數據（或穆斯堡爾譜數據）進行磁性結構參數的精修，包括磁矩方嚮和磁結構的空間群分析。 高壓與極端條件下的精修： 針對在金剛石砧座等極端條件下獲取的數據，本書分析瞭高壓導緻晶胞變化、相變以及數據質量下降對精修結果的係統性影響和修正方法。 第四部分：結果的驗證、可視化與報告規範 高質量的結構解析不僅在於得到一組參數，更在於如何驗證其可靠性並清晰地呈現結果。 結構模型可靠性檢驗： 介紹瞭統計學檢驗方法，例如殘差分析、參數標準差的閤理性評估，以及如何利用不同數據集（如不同波長數據）進行交叉驗證。 三維可視化與拓撲分析： 提供瞭利用專業軟件（如VESTA, Diamond等）進行結構渲染、鍵長/鍵角分析、以及晶體化學拓撲結構（如配位多麵體、網絡構建模塊）提取的實用技巧。 結構報告與數據共享： 遵循國際晶體學聯閤會（IUCr）的規範，指導研究者如何規範地編寫CIF文件（Crystallographic Information File），並高效地準備投稿所需的結構報告部分。 本書特色： 1. 深度聚焦於“精修”： 本書不局限於晶體結構的“解析”過程，而是將重點放在如何通過迭代優化，將初步模型提升至科學所需的精度水平。 2. 跨平颱實踐指導： 雖然不依賴單一軟件，但書中穿插瞭對當前主流精修軟件（如：FullProf, GSAS-II, Jana2006）在處理特定復雜問題時的操作邏輯和參數設置的比較分析。 3. 側重物理意義： 強調精修參數（如熱振動、占有率）背後的物理化學意義，幫助讀者理解“數字”如何轉化為“結構真實性”。 通過閱讀本書，讀者將能夠獨立處理各種復雜晶體數據，建立穩健的結構模型，並對其結果的準確性和可靠性進行科學評估。

評分☆☆☆☆☆

內容上來說，這本書的深度和廣度都達到瞭一個令人驚嘆的平衡點。它顯然不是那種隻停留在錶麵演示軟件按鈕的書籍，而是真正深入到瞭晶體結構精修背後的計算物理和化學原理層麵。作者並沒有迴避那些令人望而生畏的數學模型，而是將其拆解、消化，以一種可接受的方式呈現齣來。我發現書中對誤差分析和結構驗證部分的論述尤其深刻，這部分往往是很多入門書籍會一帶而過，但恰恰是決定精修結果可靠性的關鍵所在。通過閱讀，我不僅學會瞭如何“跑齣”一個結果，更重要的是理解瞭如何去“批判性地評估”這個結果的質量和適用範圍，這種思維上的提升遠超瞭我對一本操作指南的預期。它真正幫助我從一個單純的“軟件使用者”嚮一個更嚴謹的“晶體學傢”轉變。

評分☆☆☆☆☆

這本書的裝幀設計真是讓人眼前一亮，封麵那種沉穩中帶著一絲科技感的色調，一下子就抓住瞭我的眼球。拿到手裏，能感受到紙張的質感非常棒，厚實而不失韌性，翻閱起來有一種非常紮實的觸感，顯然齣版社在製作上是下瞭不少功夫的。內頁的排版布局也相當考究，字號大小適中，行間距處理得恰到好處，即使是長時間盯著那些復雜的晶體結構圖和公式看，眼睛也不會感到特彆疲勞，這對於我們這些需要長時間處理專業文獻的讀者來說，簡直是個福音。而且，書中圖文的對照非常清晰，那些本應密密麻麻的符號和參數，被巧妙地用不同的顔色和粗細進行瞭區分，使得學習和查閱的效率大大提升。這種對細節的極緻追求，讓我覺得這不是一本簡單的教材，更像是一件精心打磨的工具書，每一個設計都體現瞭對使用者的尊重和理解，讓人從拿到書的那一刻起，就對即將展開的學習旅程充滿瞭期待和敬意。

評分☆☆☆☆☆

從編纂的嚴謹性來看，這本書展現瞭一種近乎於工匠精神的追求。可以看到，作者團隊在資料的收集、案例的選取以及術語的統一性上，花費瞭巨大的心血。每一個引用的軟件版本、每一個數據案例，都似乎經過瞭反復的驗證和校對，確保瞭信息的時效性和準確性。在學術寫作中，這種對細節的吹毛求疵是極為寶貴的品質，它極大地減少瞭讀者在實踐中“踩坑”的概率。更難得的是，書中不僅提供瞭標準的流程，還巧妙地穿插瞭一些“高級技巧”和“常見陷阱”的警示，這些經驗之談，往往是那些非專業書籍所無法觸及的深度信息。總而言之，這是一部集理論深度、操作指導和嚴謹性於一體的典範之作，它在晶體學教學和研究領域的影響力，注定會非常深遠。

評分☆☆☆☆☆

這本書的語言風格實在是非常獨特，它沒有那種傳統教科書常見的生硬和故作高深，而是用一種近乎於“手把手教學”的口吻娓娓道來，讀起來非常親切自然，仿佛旁邊就坐著一位經驗豐富的行傢，耐心地為你解答每一個疑問。特彆是對於那些初次接觸晶體學軟件操作的同行來說，這本書的敘述方式簡直是救星。它沒有直接拋齣晦澀的理論框架，而是從實際操作中遇到的常見問題入手，循序漸進地引導我們理解背後的原理。這種“問題驅動”的學習路徑，極大地降低瞭入門的心理門檻，讓復雜的軟件流程變得邏輯清晰、易於掌握。我特彆欣賞作者在解釋某些關鍵步驟時，那種深入淺齣的錶達能力，總能在最關鍵的地方用最樸實的語言點亮思維的火花，讓人豁然開朗，而不是一頭霧水。

評分☆☆☆☆☆

這本書的實用性簡直達到瞭教科書級彆的標準，可以說是我們實驗室必備的“案頭寶典”。作者對於SHELXL軟件的各個模塊和輸入參數的講解，詳盡到瞭令人發指的地步，幾乎囊括瞭日常工作中可能遇到的所有“疑難雜癥”。我曾遇到一個非常棘手的結構，嘗試瞭多種方法都無法收斂，抱著試一試的心態查閱瞭書中的特定章節，結果發現書中針對該類問題的處理技巧和參數調整建議，簡直就是量身定製的解決方案。這種“實戰派”的知識儲備，讓這本書的價值遠遠超越瞭一般的學術專著，它直接轉化為我們科研效率的提升。每一次當我準備開始一個新的精修項目時，翻開這本書，總能找到穩定信心的力量，因為它就像一位隨時待命的資深顧問，能為最棘手的挑戰提供可靠的指導。