基本信息

书名：半导体技术基础(杜中一)

定价：25.00元

作者：杜中一

出版社：化学工业出版社

出版日期：2011-01-01

ISBN：9787122099259

字数：

页码：

版次：1

装帧：平装

开本：16开

商品重量：0.440kg

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内容提要

本书针对高职教学及学生的特点，根据微电子、电子制造、光电子以及光伏等专业人才培养方案的需要，系统地介绍了半导体技术相关的基础知识。本书主要包括半导体物理基础、硅半导体材料基础、化合物半导体材料基础、PN结、双极型晶体管、MOS场效应晶体管、其他常用半导体器件、半导体工艺化学、半导体集成电路设计原理、半导体集成电路设计方法与制造工艺等内容。
本书“以应用为目的，以实用为主，理论以必需、够用为度”作为编写原则，突出理论的实用性，语言通俗易懂，内容全面,重点突出,层次清楚,结构新颖,实用性强。
本书可作为微电子、电子制造、光电子以及光伏等相关专业的高职高专学生的教材或学习参考用书。

目录

章　半导体技术概述
　11　半导体技术
　　111　半导体集成电路发展史
　　112　半导体技术的发展趋势
　12　半导体与电子制造
　　121　电子制造基本概念
　　122　电子制造业的技术核心
　习题
第2章　半导体物理基础
　21半导体能带
　　211　电子的共有化
　　212　能带
　　213　杂质能级
　22　半导体的载流子运动
　　221　载流子浓度与费米能级
　　222　载流子的运动
　习题
第3章　硅半导体材料基础
　31　半导体材料概述
　　311　半导体材料的发展
　　312　半导体材料的分类
　32　硅材料的主要性质
　　321　硅材料的化学性质
　　322　硅材料的晶体结构
　　323　硅材料的电学性质
　　324　硅材料的热学性质
　　325　硅材料的机械性质
　33　硅单晶的制备技术
　　331　高纯硅的制备
　　332　硅的提纯技术
　　333　硅的晶体生长
　　334　晶体中杂质与缺陷
　34　集成电路硅衬底加工技术
　　341　硅单晶抛光片的制备
　　342　硅单晶抛光片的质量检测
　35　硅的外延生长技术
　　351　外延生长概述
　　352　硅气相外延生长技术
　习题
　……
第4章　化合物半导体材料基础
第5章　PN结
第6章　双极型晶体管
第7章　MOS场效应晶体管
第8章　其他常用半导体器件
第9章　半导体工艺化学基础
0章　半导体集成电路设计原理
1章　半导体集成电路设计方法与制造工艺
参考文献

作者介绍

文摘

序言