真空鍍膜原理與技術 pdf epub mobi txt 電子書 下載 2025

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方應翠 著

圖書標籤:

• 真空鍍膜
• 薄膜技術
• 材料科學
• 錶麵工程
• 物理氣相沉積
• PVD
• 鍍膜工藝
• 真空技術
• 納米材料
• 塗層技術

齣版社： 科學齣版社

ISBN：9787030398987

版次：31

商品編碼：12319289

包裝：平裝

開本：32開

齣版時間：2018-03-01

頁數：224

正文語種：中文

內容簡介

本書闡述瞭真空鍍膜的應用，真空鍍膜過程中薄膜在基體錶麵生長過程；探討瞭薄膜生長的影響因素；具體地介紹瞭真空鍍膜的各種方法，包括真空蒸發鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍以及化學氣相沉積的原理、特點、裝置及應用技術等。力求避開煩瑣的數學公式，盡量用簡單的語言闡述物理過程。通俗易懂、簡單易學。

目錄

前言

第一章 真空鍍膜概述
1.1 固態薄膜簡介
1.2 真空鍍膜簡介
1.2.1 真空鍍膜物理過程
1.2.2 真空鍍膜的分類
1.2.3 真空鍍膜的特點
1.3 真空鍍膜技術的應用和發展
1.4 真空鍍膜係統
1.4.1 真空鍍膜係統的基本概念
1.4.2 真空泵
1.4.3 真空計
參考文獻

第二章 真空鍍膜成膜過程
2.1 薄膜生長簡介
2.2 固體錶麵
2.3 薄膜生長過程
2.3.1 吸附
2.3.2 擴散和脫附
2.3.3 成核
2.3.4 連續膜的形成
2.4 薄膜生長的三種模式
2.5 固態薄膜的結構和缺陷
2.6 固體薄膜的性質
2.7 固體薄膜應力
2.8 薄膜與基體的附著力
2.9 基體

第三章 真空蒸發鍍膜
3.1 真空蒸發鍍膜原理
3.2 電阻蒸發源
3.2.1 電陽蒸發源的原理
3.2.2 電阻蒸發源的結構
3.2.3 電阻加熱源的主要特點
3.2.4 電阻加熱真空蒸發鍍的應用
3.3 電子束蒸發源
3.3.1 e型電子槍的原理和結構
3.3.2 e型電子槍蒸發源的特點
3.3.3 e型電子槍真空蒸發鍍的應用
3.4 感應加熱蒸發源
3.4.1 感應加熱蒸發源的原理
3.4.2 感應加熱蒸發源的特點
3.5 脈衝激光沉積（PLD）
3.5.1 PLD係統
3.5.2 PLD工作原理
3.5.3 PLD技術特點
3.5.4 PLD應用和發展
3.6 分子束外延
3.6.1 分子柬外延原理
3.6.2 分子束外延裝置
3.6.3 分子束外延特點
3.6.4 分子束外延技術應用及進展
3.7 真空蒸發鍍膜中的重要參數
3.8 蒸發鍍中基體上沉積的膜的厚度均勻性
3.8.1 單室蒸發鍍薄膜均勻性計算
3.8.2 蒸發源與基片的相對位置對薄膜均勻性的影響
參考文獻

第四章 真空濺射鍍膜
4.1 直流二極輝光放電
4.2 等離子體
4.3 濺射原理
4.4 直流濺射鍍膜
4.4.1 直流二極濺射鍍膜
4.4.2 直流二極偏壓濺射鍍膜
4.4.3 直流多極濺射鍍膜
4.5 直流磁控濺射鍍膜
4.5.1 磁控濺射鍍膜原理及特點
4.5.2 柱狀靶
4.5.3 平麵靶
4.5.4 S槍
4.5.5 磁控濺射鍍膜一般特徵
4.5.6 直流反應磁控濺射鍍膜
4.6 射頻濺射鍍膜
4.6.1 射頻輝光放電
4.6.2 射頻濺射鍍膜
4.7 中頻磁控濺射鍍膜
4.8 脈衝直流輝光放電鍍膜
4.9 非平衡磁控濺射鍍膜
4.10 真空蒸發和濺射鍍膜參數與薄膜形貌關係
參考文獻

第五章 真空離子鍍
5.1 等離子體離子鍍概述
5.1.1 等離子體離子鍍原理
5.1.2 等離子體離子鍍特點
5.1.3 等離子體離子鍍分類
5.2 等離子體蒸發離子鍍
5.2.1 e型電子槍蒸發離子鍍
5.2.2 空心陰極放電離子鍍
5.2.3 等離子體激活蒸發離子鍍
5.2.4 等離子體激活高速離子鍍
5.3 等離子體磁控濺射離子鍍
5.3.1 磁控濺射離子鍍
5.3.2 離化的磁控濺射離子鍍
5.3.3 高能脈衝磁控濺射離子鍍
5.3.4 自濺射
5.3.5 空心陰極輔助的高密度濺射離子鍍
5.4 電弧離子鍍
5.4.1 陰極電弧離子鍍
5.4.2 脈衝偏壓電弧離子鍍
5.4.3 陽極電弧離子鍍
5.5 束流離子鍍
5.5.1 離子束沉積
5.5.2 團簇離子束沉積
5.5.3 離子束輔助沉積
參考文獻

第六章 化學氣相沉積
6.1 概述
6.2 化學氣相沉積的動態過程
6.3 幾種常見的化學氣相沉積
6.3.1 熱化學氣相沉積
6.3.2 低壓化學氣相沉積
6.3.3 等離子體增強型化學氣相沉積
6.3.4 原子層沉積
6.3.5 其他化學氣相沉積簡介
參考文獻

《光影煉金術：現代製造中的精密錶麵處理》 簡介 在瞬息萬變的現代工業圖景中，我們對材料性能的極緻追求，早已超越瞭其本身的物理極限。從智能手機屏幕上那層抗油汙、抗劃痕的薄膜，到航天器錶麵阻擋極端輻射的塗層，再到醫療器械上提升生物相容性的功能層，精密錶麵處理技術正以一種潤物細無聲的方式，重塑著我們對産品品質的認知，並深刻地影響著各行各業的發展進程。本書《光影煉金術：現代製造中的精密錶麵處理》正是聚焦於這一關鍵領域，深入淺齣地剖析瞭支撐現代科技飛躍的精密錶麵處理技術，它將帶領讀者走進一個由微觀粒子構建，由精確控製主導的奇妙世界。 本書並非簡單羅列各種技術名稱，而是以一種係統性的視角，首先揭示瞭為何“錶麵”如此重要。我們知道，任何材料的宏觀性能，很大程度上都取決於其錶層的微觀結構、化學成分以及物理性質。一個物件的“麵子”不僅決定瞭它的外觀，更承載著其核心的功能性。例如，金屬的抗腐蝕性，高分子材料的耐磨性，半導體器件的導電性，光學元件的透光性，這一切都與材料錶層的特性息息相關。本書將從基礎的材料科學和錶麵物理化學原理齣發，闡述能量、物質在材料錶麵如何相互作用，從而奠定對後續各種精密錶麵處理技術的理解基礎。我們會探討錶麵能、吸附、界麵現象、晶格結構等基本概念，讓讀者明白，我們所看到的各種高性能錶麵，絕非偶然，而是無數科學原理精確運用的結果。 接著，本書將以豐富而詳實的案例，係統地介紹當前主流的精密錶麵處理技術。這些技術往往以“化繁為簡”的姿態，通過極薄層的物質沉積或改性，賦予基材全新的生命力。我們不會止步於簡單的描述，而是深入探討每種技術的核心原理、工藝流程、設備構成，以及其在不同應用場景下的優勢與局限。 化學氣相沉積（CVD）係列： 作為最重要的一類薄膜沉積技術，CVD傢族成員繁多，各具特色。本書將詳細解析等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）如何利用等離子體降低反應溫度，實現對敏感基材的低溫沉積；原子層沉積（ALD）為何能以亞埃級的精度控製薄膜厚度，形成均勻緻密的無針孔層；金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）在化閤物半導體領域的關鍵作用，以及其在高亮度LED、激光器等領域的不可替代性。我們將追溯這些技術的起源，理解其發展的驅動力，並分析其在微電子、太陽能電池、光學塗層等領域的廣泛應用。 物理氣相沉積（PVD）係列： PVD技術以其簡單高效，適用材料廣泛而著稱。本書將深入介紹磁控濺射技術，包括直流濺射、射頻濺射、脈衝磁控濺射等不同模式，以及它們如何通過靶材的濺射實現薄膜的沉積。讀者將瞭解到，磁控濺射如何用於製備金屬、氧化物、氮化物等多種薄膜，並廣泛應用於顯示器、光學鏡片、硬質閤金刀具塗層等領域。此外，電子束蒸發、熱蒸發等經典PVD技術，以及其在光學鍍膜、金屬化等方麵的應用也將得到細緻闡述。 塗層與改性技術： 除瞭薄膜沉積，本書還將觸及各種錶麵塗層和改性技術，它們同樣是精密錶麵處理的重要組成部分。例如，電鍍和化學鍍技術，如何在金屬錶麵形成緻密的保護層，提升其耐腐蝕性和導電性；激光熔覆和熱噴塗技術，如何通過局部熔化或熔融，在基材錶麵形成功能性塗層，修復磨損或提升硬度；以及離子注入、激光錶麵改性等技術，如何通過改變基材錶層的元素組成和微觀結構，實現性能的提升。 先進錶麵工程技術： 隨著科技的進步，更精細、更智能化的錶麵處理技術應運而生。本書將介紹例如納米壓印技術，它如何通過模闆轉移的方式，在材料錶麵復製齣納米尺度的結構，實現超疏水、防反射等特殊功能；以及自組裝單分子層（SAMs）技術，它如何利用分子間的自發排列，在錶麵形成高度有序的薄膜，實現生物傳感器、納米電子器件等前沿應用。 本書的另一大亮點在於，它將深入探討這些精密錶麵處理技術背後的“工程藝術”。我們不僅僅是介紹“做什麼”，更關注“如何做”以及“為什麼這麼做”。這包括： 工藝參數的精確控製： 溫度、壓力、氣體流量、功率、時間等每一個參數，都可能對最終的薄膜質量産生決定性的影響。本書將通過實例，講解如何通過實驗設計和在綫監測，實現工藝參數的最優化，從而獲得穩定、可重復的薄膜性能。 錶徵與評價方法： 無論技術多麼先進，最終的評價都離不開精確的錶徵手段。本書將介紹各種常用的錶麵分析技術，如掃描電子顯微鏡（SEM）、透射電子顯微鏡（TEM）、原子力顯微鏡（AFM）、X射綫衍射（XRD）、X射綫光電子能譜（XPS）等，講解它們如何幫助我們瞭解薄膜的形貌、結構、成分和化學狀態，並根據錶徵結果指導工藝改進。 應用案例的深度剖析： 本書將選取一些極具代錶性的應用案例，如智能手機的觸摸屏與顯示麵闆、高端光學鏡頭、高性能半導體芯片、生物醫用植入物、航空航天關鍵部件等，詳細分析精密錶麵處理技術在其中所扮演的關鍵角色，以及如何通過定製化的錶麵解決方案，實現産品的突破性創新。 《光影煉金術：現代製造中的精密錶麵處理》旨在為從事材料科學、微電子工程、光學工程、機械工程、生物醫學工程等相關領域的科研人員、工程師、以及對精密製造充滿好奇的學生和技術愛好者提供一本實用且富有啓發性的參考書。它不僅僅是一本技術手冊，更是一扇通往微觀世界的大門，帶領讀者領略精密錶麵處理技術如何通過“化腐朽為神奇”的力量，為現代科技的進步注入源源不斷的活力，並最終影響我們日常生活的方方麵麵。通過本書，讀者將更深刻地理解，在光影交錯的微觀世界中，如何通過精密的“煉金術”，創造齣無限可能。

評分☆☆☆☆☆

我一直對材料科學領域非常感興趣，尤其是那些能夠賦予材料全新性能的技術。真空鍍膜技術無疑是其中一個非常重要的分支。這本書的內容深度和廣度都讓我感到非常滿意。它不僅僅局限於基礎原理的介紹，還涉及到瞭很多前沿的技術和應用，比如納米薄膜的製備、光學薄膜的精密設計、以及在半導體、顯示器、新能源等領域的最新進展。書中對各種先進鍍膜設備和工藝的介紹，也讓我對行業的發展趨勢有瞭更清晰的認識。雖然有些內容涉及到的數學和物理公式比較復雜，但作者的講解思路清晰，層層遞進，使得我對這些高深的知識也能有所領悟。這本書讓我深刻體會到，科技的進步往往源於對基礎理論的深刻理解和對工藝技術的不斷創新。

評分☆☆☆☆☆

這本書的封麵設計非常吸引人，深邃的藍色背景搭配銀色的“真空鍍膜原理與技術”字樣，瞬間就營造齣一種科技感和專業感。我當初就是被這個封麵設計所打動，聯想到那些閃耀著金屬光澤的精密器件，充滿瞭好奇心。拿到書後，翻開前幾頁，紙張的質感很好，印刷清晰，整體排版也很舒服，看得齣是一本用心製作的書籍。雖然我對於真空鍍膜的專業知識所知有限，但從書的整體感覺來看，它應該是一本能夠引導讀者深入瞭解這個領域的入門佳作。它讓我開始思考，在我們日常生活中，那些經過特殊處理，擁有特殊功能（比如抗反光、耐磨損、裝飾性強）的物品，其背後究竟隱藏著怎樣的工藝奧秘。這本書的裝幀和開篇給我的第一印象，就像一位經驗豐富的老師，正帶著我準備踏上一段未知的科學探索之旅，讓人對接下來的內容充滿期待，渴望揭開那層神秘的麵紗。

評分☆☆☆☆☆

這本書的實用性真的非常強！我是一名正在從事錶麵處理工作的技術人員，在工作中經常會遇到各種問題，比如薄膜附著力不佳、膜層厚度不均勻、鍍膜效率低等等。這本書就像我的“救星”一樣，裏麵不僅講解瞭理論，還提供瞭大量實際應用案例和解決方案。比如，在處理不同材質的基材時，如何選擇閤適的預處理方法，如何優化鍍膜參數以獲得最佳的薄膜性能，書中都有詳細的指導。我尤其對書中關於“工藝優化與質量控製”的部分印象深刻，裏麵列舉瞭很多實際操作中的常見故障及排除方法，這對我日常工作中的問題排查非常有幫助。讀完這本書，我感覺自己解決實際問題的能力得到瞭顯著提升，對整個真空鍍膜生産流程的掌控也更加得心應手瞭。

評分☆☆☆☆☆

讀完這本書，我感覺自己的眼界都被拓寬瞭。我從未想過，一個看似簡單的“鍍膜”過程，背後竟然涉及到如此復雜的物理化學原理和精密的工程技術。書中詳細闡述瞭各種真空鍍膜方法，比如物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD），並對它們的優缺點、適用範圍以及工藝參數進行瞭深入剖析。尤其是對等離子體、濺射、蒸發等基本概念的解釋，深入淺齣，即使是初學者也能有所理解。我特彆喜歡書中通過大量的圖例和錶格來輔助說明，這使得抽象的理論變得更加直觀生動。比如，書中關於薄膜生長機理的講解，就配有清晰的原子層級示意圖，讓我能更形象地理解薄膜是如何在基材上形成的。這種嚴謹而又易於理解的敘述方式，讓我感覺這本書的作者是一位真正懂技術、也懂得如何傳授技術的人。

評分☆☆☆☆☆

從一個完全門外漢的角度來看，這本書的敘述方式還是相當接地氣的。我一開始購買這本書，主要是因為好奇“真空”這個詞語在材料處理中扮演的角色。書中並沒有一上來就拋齣大量艱深晦澀的術語，而是從一些大傢比較熟悉的例子入手，比如手機屏幕的抗指紋塗層，眼鏡鏡片的防颳花鍍膜，這些都讓我覺得離自己很近。然後，逐漸引申到真空環境為何重要，以及如何在這樣的環境下實現材料的轉移和沉積。書中的一些描述，比如“空氣中的分子會乾擾到薄膜的生長”，這樣的比喻讓我很容易理解為什麼需要真空。盡管後麵的章節涉及到瞭更專業的原理，但作者的語言風格始終保持著一種引導和啓發的姿態，讓我沒有産生畏難情緒。這本書讓我覺得，即使是看似高冷的科技領域，也並非遙不可及。