基本信息
書名:矽加工中的錶徵
定價:88.00元
作者:(美)布倫協爾 等
齣版社:哈爾濱工業大學齣版社
齣版日期:2014-01-01
ISBN:9787560342801
字數:
頁碼:
版次:1
裝幀:平裝
開本:16開
商品重量:0.4kg
編輯推薦
內容提要
《矽加工中的錶徵》是材料錶徵原版係列叢書之一。全書共分六章,內容包括:材料錶徵技術在矽外延生長中的應用;多晶矽導體;矽化物;鋁和銅基導綫;級鎢基導體;阻隔性薄膜。本書適閤作為相關領域的教學、研究、技術人員以及研究生和高年級本科生的參考書。
目錄
Preface to the Reissue of the Materials Characterization Series
Preface to Series
Preface to the Reissue of Characterization in Silicon Processing
Preface
Contributors
APPLICATION OF MATERIALS CHARACTERIZATION TECHNIQUES TO SILICON EPITAXIAL GROWTH
1.1 Introduction
1.2 Silicon Epitaxial Growth
1.3 Film and Process Characterization
1.4 Selective Growth
1.5 Si1_xGex Epitaxial Growth
1.6 Si1_ xGex Material Characterization
1.7 Summary
POLYSILICON CONDUCTORS
2.1 Introduction
2.2 Deposition
2.3 Doping
2.4 Patterning
2.5 Subsequent Processing
SILICIDES
3.1 Introduction
3.2 Formation of Silicides
3.3 The Silicide-Silicon Interface
3.4 Oxidation of Silicides
3.5 Dopant Redistribution During Silicide Formation
3.6 Stress in Silicides
3.7 Stability of Silicides
3.8 Summary
ALUMINUM- AND COPPER-BASED CONDUCTORS
4.1 Introduction
4.2 Film Deposition
4.3 Film Growth
4.4 Encapsulation
4.5 Reliability Concerns
TUNGSTEN-BASED CONDUCTORS
5.1 Applications for ULSI Processing
5.2 Deposition Principles
5.3 Blanket Tungsten Deposition
5.4 Selective Tungsten Deposition
BARRIER FILMS
6.1 Introduction
6.2 Characteristics of Barrier Films
6.3 Types of Barrier Films
6.4 Processing Barrier Films
6.5 Examples of Barrier Films
6.6 Summary
APPENDIX: TECHNIQUE SUMMARIES
1 Auger Electron Spectroscopy (AES)
2 Ballistic Electron Emission Microscopy (BEEM)
3 Capacitance-Voltage (C-V) Measurements
4 Deep Level Transient Spectroscopy (DLTS)
5 Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry (Dynamic SIMS)
6 Electron Beam Induced Current (EBIC) Microscopy
7 Energy-Dispersive X-Ray Spectroscopy (EDS)
8 Focused Ion Beams (FIBs)
9 Fourier Transform Infrared Spectroscopy (FTIR)
10 Hall Effect Resistivity Measurements
11 Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (ICPMS)
12 Light Microscopy
13 Low-Energy Electron Diffraction (LEED)
14 Neutron Activation Analysis (NAA)
15 Optical Scatterometry
16 Photoluminescence (PL)
17 Raman Spectroscopy
18 Reflection High-Energy Electron Diffraction (RHEED)
19 Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS)
20 Scanning Electron Microscopy (SEM)
21 Scanning Transmission Electron Microscopy (STEM)
22 Scanning Tunneling Microscopy and Scanning Force Microscopy (STM and SFM)
23 Sheet Resistance and the Four Point Probe
24 Spreading Resistance Analysis (SRA)
25 Static Secondary Ion Mass Spectrometry (Static SIMS)
26 Surface Roughness: Measurement, Formation by Sputtering, Impact on Depth Profiling
27 Total Reflection X-Ray Fluorescence Analysis (TXRF)
28 Transmission Electron Microscopy (TEM)
29 Variable-Angle Spectroscopic Ellipsometry (VASE)
30 X-Ray Diffraction (XRD)
31 X-Ray Fluorescence (XRF)
32 X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
Index
作者介紹
文摘
序言
這是一本讓我感到非常“硬核”但又充滿魅力的書。當我看到《矽加工中的錶徵》這個書名時,就意識到這並非一本輕鬆的讀物,而是需要一定專業知識背景纔能深入理解的。我本人並非直接從事半導體製造,但對於科技的演進以及背後支撐的精密科學一直抱有濃厚的興趣。矽作為現代電子工業的基石,其加工過程的復雜性和精密度一直是讓我感到震撼的。而“錶徵”這個詞,在我看來,就是整個加工流程中至關重要的“檢查官”和“記錄員”。它究竟記錄瞭什麼?又如何檢查?這本書是否能夠為我揭示這些秘密?我非常期待這本書能夠詳細地介紹各種用於矽加工的錶徵方法,比如如何利用掃描電子顯微鏡(SEM)來觀察矽的錶麵形貌,如何通過透射電子顯微鏡(TEM)來探究其內部的晶體結構和缺陷,或者如何運用X射綫衍射(XRD)來分析矽的晶嚮和相組成。更重要的是,我希望它能夠解釋,這些錶徵的結果是如何被用來評估材料的質量,指導工藝參數的調整,以及發現和解決潛在的生産問題。我希望這本書能夠讓我明白,為什麼“錶徵”是如此關鍵,它是連接理論設計與實際生産的橋梁,是確保每一枚芯片都符閤設計要求、穩定運行的守護神。
評分讀到《矽加工中的錶徵》這個書名,我立刻就感受到瞭它背後蘊含的嚴謹和深度。我並非直接從事半導體行業,但作為一名科技愛好者,我對驅動現代文明發展的核心技術有著濃厚的興趣,而矽基半導體無疑是其中最重要的組成部分。我總是驚嘆於那些微小的芯片是如何被製造齣來的,而“錶徵”這個詞,在我看來,就像是解剖學中的“顯微觀察”,是對材料內在特質的精細描摹。我非常想知道,這本書會如何具體地闡述“錶徵”在矽加工中的意義?它會詳細介紹哪些錶徵的技術和方法?例如,是如何通過不同的顯微技術來觀察矽的晶體結構、錶麵形貌的?又或者,是如何通過光譜技術來分析矽的化學成分和雜質含量的?我更期待的是,這本書能夠告訴我,這些錶徵的結果是如何被用來指導整個生産過程的?比如,當錶徵發現材料存在某種缺陷時,接下來的加工流程會如何調整?當需要開發新的工藝時,錶徵又將扮演怎樣的角色?我希望這本書能夠讓我理解,為什麼對矽材料進行精準、全麵的“錶徵”是如此重要,它不僅關係到芯片的性能,更直接影響到整個半導體産業的進步。
評分《矽加工中的錶徵》這本書,光是書名就散發著一種嚴謹而又迷人的科技氣息,讓我非常好奇。我一直對半導體技術的發展及其背後的科學原理著迷,雖然我不是直接的從業者,但對於那些能夠決定我們生活方方麵麵的技術,總想深入瞭解。矽,作為現代電子産品的核心材料,它的加工過程無疑是技術密集型的典範。而“錶徵”這個詞,在我看來,是整個加工過程中一個極其關鍵的環節,它就像是給材料做“體檢”,確保其在每一個階段都符閤要求。我非常想知道,這本書會如何闡述“錶徵”在矽加工中的重要性?它會介紹哪些具體的錶徵技術?比如,如何利用高分辨率的顯微鏡來觀察矽的微觀形貌,如何通過光譜分析來探究其化學成分,又如何通過衍射技術來確定其晶體結構?更重要的是,我希望這本書能夠讓我理解,這些錶徵的結果是如何被用於指導工藝優化、質量控製,甚至新材料的研發的?我期待它能為我打開一扇窗,讓我窺見那些支撐著芯片製造背後,精密的科學測量與分析過程,從而更深入地理解現代科技的基石。
評分這本《矽加工中的錶徵》,光是這個書名就帶著一股子厚重感,讓我覺得它不是那種走馬觀花式的科普讀物,而是真正有分量的專業書籍。我個人對材料科學和精密製造一直有著濃厚的興趣,尤其是半導體領域,更是讓我著迷。雖然我的職業生涯並未直接觸及矽加工,但每當我看到那些先進的電子産品,總會忍不住去思考它們背後是如何誕生的。這本書的齣現,恰好填補瞭我在這方麵的知識空白。我非常好奇,它會如何詳細地闡述“錶徵”這一概念在矽加工中的重要性。在我看來,“錶徵”不僅僅是簡單的測量,它更像是一種對材料內在屬性的“診斷”和“畫像”。究竟有哪些關鍵的“錶徵”技術被廣泛應用於矽加工?這些技術是如何運作的?它們能夠揭示齣矽材料的哪些關鍵信息,例如晶體結構、錶麵形貌、雜質含量、缺陷分布等等?我希望這本書能夠深入淺齣地介紹這些技術,甚至配上一些圖錶和案例,這樣我纔能更好地理解。同時,我也想知道,不同的錶徵技術之間有什麼聯係和區彆?它們各自適用於哪些特定的加工環節?這本書會不會對這些問題進行詳細的解答,並引導我理解,為什麼精準的“錶徵”是保證芯片質量和性能的基石?我期待這本書能讓我對矽加工過程有一個更全麵、更深刻的認識,甚至能啓發我對相關領域的思考。
評分哇,這本書的封麵設計就讓我眼前一亮,那種沉靜中帶著科技感的風格,仿佛預示著一場關於精密工藝的深度探索。我雖然不是直接從事矽加工的業內人士,但一直對半導體製造過程中的那些細微之處充滿好奇,總覺得這些隱藏在微觀世界裏的技術,纔是驅動現代科技發展的真正引擎。這本書的標題——《矽加工中的錶徵》,立刻抓住瞭我的興趣點,因為它點齣瞭一個我一直覺得至關重要但又相對晦澀的環節。很多時候,我們隻看到最終的産品,比如性能強勁的芯片,但背後的製造過程,尤其是那些決定産品成敗的關鍵“錶徵”環節,往往是大眾瞭解的盲區。這本書似乎正是要把我帶入這個神秘而又迷人的領域,讓我一窺究竟。我期待它能用一種既專業又不失可讀性的方式,為我揭示矽加工過程中那些肉眼無法捕捉、但卻至關重要的“特質”是如何被識彆、測量和控製的。我想象中的“錶徵”,可能涉及到各種高精度的儀器,各種復雜的物理和化學原理,甚至是需要極強的耐心和細緻的觀察力。這本書能否讓我理解這些“錶徵”背後的科學原理?它是否能讓我體會到,一塊小小的矽片,是如何在無數次的精密加工和嚴苛的錶徵下,最終蛻變成我們日常生活中不可或缺的電子器件?我非常想知道,這本書會以怎樣的視角來解讀“錶徵”這一概念,是側重於技術方法,還是會深入探討其在整個生産鏈中的意義?
評分拿到《矽加工中的錶徵》這本書,我首先就被它那種嚴謹而又充滿探索精神的書名吸引瞭。作為一名對科學技術的發展有著高度關注的普通讀者,我一直對半導體製造這一高度精密、日新月異的領域充滿瞭好奇。我們日常生活中離不開的電子産品,其核心就是那些微小的芯片,而這些芯片的誕生,離不開對矽這種材料極其細緻的加工和“錶徵”。我對“錶徵”這個概念一直抱有很強的求知欲,它究竟意味著什麼?它在矽加工的整個鏈條中扮演著怎樣的角色?這本書是否能夠帶我深入瞭解,矽材料在經過各種復雜的物理和化學處理後,其微觀結構、化學成分、錶麵狀態等等關鍵屬性是如何被準確地測量和評估的?我非常期待這本書能夠以一種清晰易懂的方式,介紹那些支撐“錶徵”的關鍵技術,比如各種光譜技術、顯微成像技術、衍射技術等等。更重要的是,我希望能理解,這些錶徵的結果是如何被解讀和應用的,它們如何幫助工程師們理解材料的行為,優化加工工藝,確保最終芯片的性能和可靠性。我希望這本書能夠讓我窺見半導體製造的“幕後”,瞭解那些決定産品優劣的關鍵“細節”。
評分說實話,拿到《矽加工中的錶徵》這本書時,我內心是充滿期待的。我雖然不是該領域的專傢,但一直以來,我都對那些支撐著現代科技發展的基礎性、前沿性技術充滿好奇。半導體産業無疑是其中的佼佼者,而矽作為其核心材料,其加工過程中的每一個細節都至關重要。這本書的標題就非常有吸引力,“錶徵”這個詞,在我看來,就是一種對事物本質的深刻洞察和精準描繪。我一直在想,在將一塊普通的矽片轉化為高性能芯片的過程中,究竟需要經過多少復雜的步驟?而“錶徵”在其中扮演著怎樣的角色?它是否就像醫生診斷病人一樣,通過各種手段來瞭解矽材料的“健康狀況”,從而指導後續的加工?我特彆想知道,這本書會從哪些角度來解析“錶徵”?它會側重於介紹那些具體的錶徵技術,比如電子顯微鏡、光譜分析、衍射技術等等,並解釋它們是如何工作的,又如何幫助工程師們理解和控製矽的微觀結構?又或者,它會更偏重於錶徵在質量控製、失效分析、新材料開發等方麵的應用?我希望這本書能夠提供清晰的邏輯框架,讓我能夠理解錶徵技術的原理,更重要的是,理解這些錶徵數據是如何被解讀和應用的,從而最終影響到芯片的性能和可靠性。這絕對是一本能夠拓寬我視野的書。
評分看到《矽加工中的錶徵》這本書,我立刻被它所傳達的專業度和深度所吸引。我雖然不是直接從事這個行業,但一直對科技的進步以及支撐它的基礎科學有著濃厚的興趣。半導體産業無疑是現代科技的核心驅動力,而矽作為其主要的材料,其加工過程的每一個細節都至關重要。我一直很好奇,究竟是什麼樣的技術手段,能夠如此精確地控製和衡量矽材料的各種屬性,以至於能夠製造齣我們今天所依賴的強大芯片。“錶徵”這個詞,在我看來,就是對這些精細測量和分析過程的概括。這本書是否能夠深入地闡述,在矽加工的過程中,有哪些關鍵的“錶徵”參數?又采用瞭哪些先進的錶徵技術來獲取這些數據?例如,書中是否會詳細介紹掃描探針顯微鏡(SPM)如何用於錶麵形貌的測量,或者傅裏葉變換紅外光譜(FTIR)如何用於分析材料的化學組成?我更期待的是,這本書能讓我理解,這些錶徵結果是如何被轉化為實際的工藝改進,如何確保每一片矽片的質量和性能的。這絕對是一本能夠拓寬我視野、深化我對科技理解的書籍。
評分《矽加工中的錶徵》,這個書名本身就帶著一股子嚴謹求實的學術氣息,讓我感覺這絕對是一本有分量的專業書籍。我雖然不是做這個領域的,但是對任何能夠驅動現代社會運轉的核心技術都充滿瞭好奇。半導體技術,尤其是矽加工,無疑是其中的佼佼者。我一直很好奇,在將一塊普普通通的矽片變成我們手機、電腦裏那些微小的、高性能的芯片的過程中,到底隱藏瞭多少精密的技術和復雜的流程。而“錶徵”這個詞,在我看來,就是其中一個極其重要的環節。這本書是否能詳細地解釋,究竟什麼是“錶徵”?它包含瞭哪些方麵的內容?例如,在矽加工過程中,需要對哪些物理、化學、結構等方麵的性質進行“錶徵”?又使用瞭哪些高科技的儀器設備來完成這些“錶徵”工作?我非常想知道,這些“錶徵”的結果是如何被解讀和應用的,它們如何指導後續的加工步驟,如何確保産品的質量,甚至是如何幫助科學傢和工程師們發現新的問題、開發新的技術。這本書,感覺就像一本解剖學的圖譜,將矽加工的內在奧秘一層層地揭示齣來。
評分拿到《矽加工中的錶徵》這本書,我立刻被它那種專業且略帶神秘感的書名所吸引。我雖然不是半導體領域的從業者,但一直以來,我對科技最前沿的領域,尤其是那些支撐著我們現代生活的基礎性産業,都充滿瞭濃厚的興趣。矽作為現代電子工業的基石,它的加工過程充滿瞭智慧和挑戰。而“錶徵”這個詞,在我看來,就是對這些精妙過程中的關鍵環節的深入剖析。這本書是否能夠帶我走進那個微觀的、高度精確的世界,讓我理解究竟什麼是“矽加工中的錶徵”?它會詳細介紹哪些具體的錶徵技術?例如,如何通過各種手段來測量矽材料的晶體質量、錶麵粗糙度、摻雜濃度、缺陷密度等等?我更想知道的是,這些錶徵齣來的“數據”是如何被用來指導生産,如何影響最終芯片的性能和可靠性的?這本書是否能讓我明白,為什麼精確的錶徵是實現高性能、低成本芯片製造的關鍵?我期待它能用一種既有深度又不失可讀性的方式,為我揭示矽加工中那些至關重要的“幕後”工作,讓我對這個神奇的領域有更深刻的理解。
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