内容简介
《真空镀膜技术》共分10章,系统地阐述了真空镀膜技术的基本慨念和基础理论、各种薄膜制备技术、设备及工艺、真空卷绕镀膜技术、ITO导电玻璃真空镀膜工艺,尤其重点介绍了一些近年来新出现的镀膜方法与技术,如反应磁控溅射镀膜技术、中频磁控溅射镀膜和非平衡磁控溅射镀膜技术等;还详细介绍了薄膜沉积及膜厚的监控与测量以及表面与薄膜分析检测技术等方面的内容。
《真空镀膜技术》具有很强的实用性,适合于真空镀膜行业、薄膜与表面应用、材料工程、应用物理以及与真空镀膜技术有关的行业从事研究、设计、设备生产操作与维护的技术人员,也适用与真空镀膜技术相关的实验研究人员和学生,还可用作大专院校相关专业师生的教材及参考书。
内页插图
目录
1 薄膜与表面技术基础理论
1.1 概述
1.2 固体表面介绍
1.2.1 固体材料
1.2.2 固体表面与界面的基本概念
1.2.3 固体表面与界面的区别
1.3 表面晶体学
1.3.1 金属薄膜的晶体结构
1.3.2 理想的表面结构
1.3.3 表面与体内的差异
1.3.4 青洁表面结构
1.3.5 实际表面结构
1.4 表面特征(热)力学
1.4.1 表面力
1.4.2 表面张力与表面自由能
1.4.3 表面扩散
1.5 表面电子学
1.5.1 金属薄膜中的电迁移现象
1.5.2 曾强薄膜抗电迁移能力的措施
1.6 界面与薄膜附着
1.6.1 界面层
1.6.2 附着及附着力
1.6.3 固体材料表面能对附着的影响
1.6.4 表面、界面和薄膜的应力
1.6.5 增强薄膜附着力的方法
1.7 金属表面的腐蚀
1.7.1 电化学腐蚀
1.7.2 金属的钝化
1.7.3 全面腐蚀
1.7.4 局部腐蚀
2 真空蒸发镀膜
2.1 概述
2.2 真空蒸发镀膜原理
2.2.1 真空蒸发镀膜的物理过程
2.2.2 蒸发过程中的真空条件
2.2.3 镀膜过程中的蒸发条件
2.2.4 残余气体对膜层的影响
2.2.5 蒸气粒子在基片上的沉积
2.3 蒸发源
2.3.1 电阻加热式蒸发源
2.3.2 电子枪加热蒸发源
2.3.3 感应加热式蒸发源
2.3.4 空心热阴极电子束蒸发源
2.3.5 激光加热蒸发源
2.3.6 电弧加热蒸发源
2.4 特殊蒸镀技术
2.4.1 闪蒸蒸镀法
2:4.2 多蒸发源蒸镀法
2.4.3 反应蒸镀法
2.4.4 三温度蒸镀法
3 真空溅射镀膜
3.1 溅射镀膜原理
3.1.1 溅射现象
3.1.2 溅射机理
3.2 溅射沉积成膜
3.2.1 溅射源
3.2.2 溅射原子的能量与角分布
3.2.3 溅射产额与溅射速率
3.2.4 合金和化合物的溅射
3.2.5 溅射沉积成膜
3.2.6 薄膜的成分与结构
3.2.7 各种粒子轰击效应
3.2.8 溅射沉积速率
3.2.9 薄膜厚度均匀性和纯度
3.3 溅射技术概述
3.4 直流二极溅射
3.5 直流三极或四极溅射
3.6 磁控溅射
3.6.1 磁控溅射工作原理
3.6.2 磁控溅射镀膜的特点
3.6.3 磁控溅射镀膜工艺特性
3.6.4 平面磁控溅射靶
3.6.5 圆柱形磁控溅射靶
3.6.6 传统平面磁控溅射靶存在的问题
3.7 射频(RF)溅射
3.7.1 射频溅射镀膜原理
3.7.2 射频辉光放电特性
3.7.3 射频溅射装置
3.8 非平衡磁控溅射
3.8.1 非平衡磁控溅射原理
3.8.2 非平衡磁控溅射与平衡磁控溅射比较
3.8.3 建立非平衡磁控系统的方法
3.8.4 非平衡磁控溅射系统结构形式
3.8.5 非平衡磁控溅射的应用
3.9 反应磁控溅射
3.9.1 反应磁控溅射的机理
3.9.2 反应磁控溅射的特性
3.9.3 反应磁控溅射工艺过程中的主要问题
3.9.4 解决反应磁控溅射工艺运行不稳定的措施
3.10 中频交流反应磁控溅射
3.10.1 中频交流反应磁控溅射原理
3.10.2 中频双靶反应磁控溅射的特点
3.10.3 中频磁控靶结构形式
3.10.4 中频磁控靶PEM控制
3.11 非对称脉冲溅射
3.12 合金膜的溅射沉积
3.13 铁磁性靶材的溅射沉积
3.13.1 磁控溅射铁磁性靶材存在的问题
3.13.2 磁控溅射铁磁性靶材的主要方法
3.14 离子束溅射
4 真空离子镀膜
4.1 离子镀的类型
4.2 真空离子镀原理及成膜条件
4.2.1 真空离子镀原理
4.2.2 真空离子镀的成膜条件
4.3 等离子体在离子镀膜过程中的作用
4.3.1 放电空间中的粒子行为
4.3.2 离子镀过程中的离子轰击效应
4.4 离子镀中基片负偏压的影响
4.5 等离子镀的离化率与离子能量
4.5.1 离化率
4.5.2 中性粒子和离子的能量
4.5.3 膜层表面的能量活化系数
4.6 离子镀膜工艺及其参数选择
……
5 真空卷绕镀膜
6 化学气相沉积CVD技术
7 离子注入与离子辅助沉积技术
8 ITO导电玻璃镀膜工艺
9 薄膜厚度的测量与监控
10 表面与薄膜分析检测技术
参考文献
精彩书摘
1.2.3固体表面与界面的区别
表面是指固体(或液体)边界上由不同于固体内部性质的那些原子层所组成的一个相;而界面是指一个以两个均匀相为分界的面,它随相的种类不同而有相当不同的特征。
物体与气体或真空的分界处为表面,有液相、固相(凝聚相)的边界与自由空间接触的特征。固体表面的物理化学性能常与其内部的不同,这是因为在热力学平衡条件下,表面的化学组分、原子排列、原子振动状态等都与体内不同。因为表面向外的一侧没有邻近的原子,表面原子有一部分化学键伸向空洞,形成“悬挂键”,所以表面具有很活跃的化学性质。由于固体内三维周期势场在表面中断,因此表面原子的电子状态也与体内不同,显示出表面具有某种特殊的力学、光学、电学、磁学和化学性能。
一般把液体与固体、液体与液体、固体与固体这些凝聚相间的分界处称为界面。从分子角度上看,如果是液相,其分子就有能自由移动位置的界面;如果是固相,其分子或原子就有固定位置的界面。两种界面性质具有的特点相当不同。有时,表面与界面难以区分,但在固体内部晶粒的界面可与表面明确区分,这些都显示了表面与界面的区别。表面是界面的一种特殊情况,是最简单的一种“界面”形式,从一定意义上讲,表面研究是理解更为复杂的界面现象的基础。
前言/序言
真空镀膜技术既是应用广泛的工程技术,又是一门各学科交叉的边缘学科。我们在编著本书的过程中,总结了多年来的科研生产实践成果和教学经验,参阅了大量国内外的相关文献,综合参考并引用了国内外有关单位在薄膜制备方面的成熟资料与经验。书中系统地阐述了真空镀膜技术与工艺的基本概念和基础理论、各种薄膜制备技术、设备及工艺、真空卷绕镀膜技术、ITO导电玻璃真空镀膜工艺,尤其重点介绍了一些近年来新出现的镀膜方法与技术,如反应磁控溅射技术、中频磁控溅射和非平衡磁控溅射技术、卷绕镀膜技术等;还详细介绍了薄膜沉积与膜层的监控与测量以及表面与薄膜分析检测技术等方面的内容。
在编著方法上,将镀膜技术理论与工程实际结合,着重阐述各种镀膜技术的工作原理和工艺特点,还结合实际介绍了生产实践中典型产品的镀膜工艺。我们编著本书的目的就在于希望能够深入浅出地、全面系统地向读者介绍真空镀膜技术及其进展。本书既注重真空镀膜技术的理论体系,又反映了真空镀膜技术工艺的最新发展,内容涉及真空技术、薄膜物理、机械设计与制造、电磁学、自动控制技术等多学科知识,可供真空薄膜领域中的镀膜设备设计、工艺研究、生产及管理等方面人员阅读,同时也可供各大专院校相关专业的师生使用。
好的,这是一份关于《材料科学导论》的图书简介,该书内容与《真空镀膜技术》无关: --- 《材料科学导论》 内容简介 《材料科学导论》是一本全面而深入介绍现代材料科学基础理论、实验技术与前沿应用的教科书。本书旨在为材料学、化学、物理学、机械工程等相关专业的本科生及研究生提供一个坚实的知识框架,同时也适合希望系统了解材料世界奥秘的工程师和研究人员阅读。 本书结构清晰,逻辑严谨,将复杂的材料学原理以易于理解的方式呈现。全书涵盖了从原子结构到宏观性能的完整链条,重点阐述了材料的结构、性能、制备工艺及其应用之间的内在联系。 第一部分:材料的微观结构基础 本部分首先从原子和晶体结构入手,深入探讨了材料内部的排列方式。内容包括晶格常数、晶带理论、晶体缺陷(点缺陷、线缺陷、面缺陷)的形成与影响。我们详尽分析了金属、陶瓷、高分子和复合材料在原子尺度上的异同,特别是共价键、离子键、金属键和范德华力如何决定材料的本征特性。此外,本章还引入了电子结构理论,解释了导电性、半导体特性以及磁性的微观起源。 第二部分:材料的性能与表征 材料的性能是其结构在特定条件下宏观体现。本部分聚焦于几种关键的材料性能: 1. 力学性能: 详细阐述了强度、硬度、韧性、疲劳和蠕变等概念。通过对位错理论的深入剖析,解释了金属塑性变形的机制,并介绍了如何通过相变和晶粒细化来强化材料。 2. 热学性能: 讨论了热容、热导率和热膨胀系数。重点分析了晶格振动(声子)在热能传输中的作用,并对比了不同材料在极端温度环境下的行为。 3. 电学与磁学性能: 区分了导体、绝缘体和半导体的能带模型。在磁性方面,系统介绍了抗磁性、顺磁性、铁磁性、反铁磁性和亚铁磁性的物理本质及应用实例。 4. 光学性能: 探讨了光与物质的相互作用,包括吸收、反射、透射和散射现象,为理解透明材料、光电器件和表面涂层提供了理论基础。 为准确获取上述性能,本部分还专门设立了一章介绍材料的表征技术。内容涵盖了X射线衍射(XRD)用于晶体结构分析、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)用于微观形貌观察、能谱分析(EDS)用于元素成分确定,以及热分析技术(如DSC、TGA)的应用。 第三部分:主要的材料类别及其制备 本书的核心价值在于对四大类工程材料的分类讨论与工艺解析: 1. 金属材料: 重点研究合金设计原理,包括相图(如Fe-C相图的精细解读)、凝固过程和热处理技术(退火、淬火、回火、时效)。内容还涉及了新型轻质高强合金(如铝锂合金、镍基高温合金)的开发趋势。 2. 陶瓷材料: 涵盖了传统氧化物陶瓷(如氧化铝、氧化锆)和先进非氧化物陶瓷(如碳化硅、氮化硅)。着重分析了陶瓷的脆性来源、烧结过程中的致密化机制,以及它们在高温、耐磨和生物相容性方面的优势。 3. 高分子材料: 详细介绍了聚合物的合成、分子量对性能的影响、粘弹行为、玻璃化转变温度(Tg)及其测量。内容覆盖了热塑性塑料、热固性树脂和弹性体的结构与应用。 4. 复合材料: 论述了纤维增强材料、颗粒增强材料和结构复合材料的设计理念。深入探讨了界面在传递载荷中的关键作用,以及玻璃纤维、碳纤维和纳米粒子作为增强相的特性。 第四部分:材料的加工、服役与发展前沿 本部分将理论与实际工程应用紧密结合。首先,讨论了材料的成形与加工工艺,如铸造、塑性加工(锻、轧、挤)、连接技术(焊接与粘接),以及如何通过加工硬化来改变材料性能。 其次,本书用相当篇幅讲解了材料的失效分析。涵盖了腐蚀(电化学腐蚀、应力腐蚀开裂)、疲劳断裂的机制及其预防措施。这对于确保工程结构的长期可靠性至关重要。 最后,本书展望了21世纪材料科学的几个核心前沿领域,包括:纳米材料(量子点、纳米管的特性与应用)、智能材料(形状记忆合金、压电材料)以及可持续性材料(生物可降解塑料、先进回收技术)。这些章节旨在激发读者的创新思维,理解材料科学如何驱动未来技术革新。 《材料科学导论》以其内容的广度、深度和与工程实践的紧密结合,成为学习和研究材料科学的理想参考书。本书的配图精美,习题设计合理,是构建完整材料知识体系的基石。