基本信息
书名:透明氧化物半导体
定价:148.00元
作者:马洪磊,马瑾
出版社:科学出版社
出版日期:2017-02-01
ISBN:9787030416643
字数:
页码:
版次:31
装帧:圆脊精装
开本:16开
商品重量:0.4kg
编辑推荐
《透明氧化物半导体》可作为大专院校凝聚态物理、微电子学与固体电子学、光电子学、电子材料与元器件、材料物理与化学等相关专业研究生的教材或参考书,也可供从事透明氧化物半导体教学、科研的教师、科学研究人员和工程技术人员参考。
内容提要
《透明氧化物半导体》重点阐述了已经得到广泛应用或具有重要应用前景的8种氧化物半导体的制备技术、晶体结构、形貌、缺陷、电子结构、电学性质、磁学性质、压电性质、光学性质和气敏性质,既包含了作者近30年的研究成果,又反映了国内外透明氧化物半导体重要研究成果,既包含了早期透明氧化物半导体成熟理论,又反映了当前国际上透明氧化物半导体的*成果,重点突出,内容系统、全面、新颖,具有重要的科学意义和应用价值。
目录
目录 v
vi 透明氧化物半导体
目录
前言
绪论1
第1章氧化物薄膜的制备技术5
1 1真空蒸发技术6
1 1 1金属和化合物蒸发6
1 1 2蒸发源的加热装置9
1 2MBE技术12
1 3溅射技术14
1 3 1双极直流反应溅射15
1 3 2偏压溅射16
1 3 3射频溅射18
1 3 4磁控溅射19
1 3 5离子束溅射22
1 4离子镀技术23
1 5CVD技术24
1 5 1APCVD和LPCVD技术25
1 5 2PECVD技术26
1 5 3MOCVD技术27
1 6溶液镀膜技术30
1 6 1喷涂高温分解30
1 6 2浸涂技术31
1 6 3化学溶解生长31
1 6 4sol gel技术32
1 7阳极氧化技术33
1 7 1阳极氧化技术33
1 7 2等离子体阳极氧化技术34
参考文献36
第2章氧化物半导体基础41
2 1金属氧化物晶体结构41
2 1 1MO 型金属氧化物的典型晶体结构41
2 1 2MO2型金属氧化物晶体的典型晶体结构42
2 1 3M2O3型金属氧化物的典型晶体结构43
2 2金属氧化物的缺陷44
2 2 1金属氧化物晶体缺陷类型44
2 2 2金属氧化物晶体点缺陷理论基础45
2 3金属氧化物半导体的电学性质50
2 3 1金属氧化物半导体的电子结构51
2 3 2金属氧化物半导体的载流子浓度52
2 3 3金属氧化物半导体载流子输运散射机制54
2 4氧化物半导体的磁学性质57
2 4 1稀磁氧化物半导体的掺杂元素58
2 4 2氧化物半导体的铁磁性起源60
2 5透明氧化物半导体的光学性质62
2 5 1透明氧化物半导体的光学常数62
2 5 2Burstein Moss移动67
2 5 3透明氧化物半导体薄膜的PL特性70
2 6金属氧化物半导体的气敏特性74
参考文献76
目录 vii
vi 透明氧化物半导体
第3章ZnO薄膜81
3 1ZnO薄膜的晶体结构82
3 1 1ZnO的晶体结构82
3 1 2ZnO薄膜的XRD谱84
3 1 3ZnO薄膜的Raman谱86
3 1 4ZnO薄膜的RHEED图案88
3 1 5ZnO薄膜的HRTEM图像90
3 2ZnO的电子结构90
3 3ZnO的本征点缺陷92
3 4ZnO薄膜的电学性质94
3 4 1本征ZnO的弱n型导电94
3 4 2ZnO的掺杂96
3 4 3ZnO薄膜载流子散射机制99
3 5ZnO薄膜的磁学性质和压电性质100
3 5 1ZnO基稀磁半导体100
3 5 2ZnO薄膜的压电性质 102
3 6ZnO薄膜的光学性质103
3 6 1ZnO薄膜的光透射谱103
3 6 2ZnO薄膜的PL特性105
3 6 3ZnO薄膜的激子受激发射特性108
参考文献109
第4章SnO2薄膜114
4 1SnO2薄膜的晶体结构115
4 1 1SnO2的晶体结构115
4 1 2SnO2薄膜的XRD谱116
4 1 3SnO2薄膜的Raman谱120
4 1 4SnO2薄膜的TEM和HRTEM图像123
4 1 5SnO2薄膜的XPS谱125
4 1 6SnO2薄膜的RBS谱127
4 2金红石SnO2的电子结构127
4 3SnO2薄膜的电学性质129
4 3 1金红石SnO2的本征缺陷129
4 3 2金红石SnO2薄膜的掺杂131
4 3 3金红石SnO2薄膜载流子散射机制133
4 3 4铌铁矿SnO2薄膜的电学性质135
4 4SnO2薄膜的磁学性质136
4 5SnO2薄膜的光学特性137
4 5 1SnO2薄膜的光透射谱138
4 5 2SnO2薄膜的PL特性141
4 6金红石SnO2薄膜的气敏特性144
参考文献145
第5章TiO2薄膜151
5 1TiO2薄膜的晶体结构152
5 1 1TiO2的晶体结构152
5.1.2TiO2薄膜的XRD谱153
5 1 3TiO2薄膜的Raman谱157
5 1 4TiO2薄膜的XPS谱159
5 1 5TiO2的RBS谱159
5 2TiO2的电子结构161
5 3TiO2的本征点缺陷164
5 4TiO2薄膜的电学性质168
5 5TiO2薄膜的磁学性质173
5 6TiO2薄膜的光学性质175
5 6 1TiO2薄膜的光透射谱175
5 6 2TiO2薄膜的PL特性177
5 6 3TiO2薄膜的光学常数179
5 7TiO2薄膜的光催化特性181
参考文献183
目录 ix
viii 透明氧化物半导体
第6章In2O3薄膜190
6 1In2O3薄膜的晶体结构190
6 1 1In2O3薄膜的晶体结构190
6 1 2In2O3薄膜的XRD谱192
6 1 3In2O3薄膜的Raman谱195
6 1 4In2O3薄膜的HRTEM图像197
6 1 5In2O3薄膜的XPS谱200
6 1 6In2O3薄膜的RBS谱201
6 2In2O3的电子结构203
6 3In2O3薄膜的电学性质205
6 3 1In2O3的本征点缺陷205
6 3 2In2O3薄膜的电导特性207
6 3 3In2O3薄膜载流子散射机制211
6 4In2O3薄膜的磁学性质212
6 5In2O3薄膜的光学性质213
6 5 1In2O3薄膜的光透射谱214
6 5 2In2O3薄膜的PL特性216
6 5 3In2O3薄膜的光学常数217
6 6In2O3薄膜的气敏特性220
参考文献222
第7章Ga2O3薄膜227
7 1Ga2O3薄膜的晶体结构228
7 1 1Ga2O3的晶体结构228
7 1 2Ga2O3薄膜的XRD谱229
7 1 3β Ga2O3的薄膜HRTEM图像232
7 1 4β Ga2O3薄膜的Raman谱235
7 1 5β Ga2O3的XPS谱237
7 1 6Ga2O3薄膜的RBS谱238
7 2Ga2O3的电子结构239
7 3Ga2O3薄膜的电学性质242
7 3 1Ga2O3的点缺陷242
7 3 2Ga2O3薄膜的电学性质244
7 4Ga2O3薄膜的光学性质246
7 4 1Ga2O3薄膜的光透射谱246
7 4 2Ga2O3薄膜的PL特性249
7 4 3Ga2O3的薄膜CL特性252
7 4 4Ga2O3薄膜的光学常数254
7 5β Ga2O3薄膜的气敏特性256
参考文献258
第8章MgZnO薄膜263
8 1MgZnO薄膜的晶体结构264
8 1 1MgZnO薄膜的晶体结构264
8 1 2MgZnO薄膜的XRD谱265
8 1 3MgZnO薄膜的Raman谱269
8 1 4MgZnO薄膜的AFM图像270
8 1 5MgZnO薄膜的TEM和HRTEM图像271
8 1 6MgZnO的XPS谱273
8 1 7MgZnO薄膜的RBS谱275
8 2MgZnO的电子结构276
8 3MgZnO薄膜的电学和磁学性质280
8 3 1MgZnO薄膜的电学性质280
8 3 2MgZnO薄膜的磁学性质282
8 4MgZnO的光学性质283
8 4 1MgZnO薄膜的光透射谱283
8 4 2MgZnO薄膜的PL特性286
8 4 3MgZnO薄膜的长波光学声子性质290
8 4 4MgZnO薄膜的光学常数292
参考文献296
第9章GaInO和InGaZnO薄膜299
9 1引言299
9 2GaInO薄膜299
9 2 1GaInO薄膜的晶体结构300
9 2 2GaInO薄膜的电学性质307
9 2 3GaInO薄膜的光学性质309
9 3InGaZnO薄膜311
9 3 1InGaZnO薄膜的晶体结构312
9 3 2InGaZnO薄膜的电学性质315
9 3 3InGaZnO薄膜的光学性质325
参考文献326
目录 ix
x 透明氧化物半导体
第10章透明氧化物电子学330
10 1引言330
10 2透明氧化物薄场效应膜晶体管332
10 2 1c IGZO TFT333
10 2 2a IGZO TFT335
10 2 3ZnO TFT344
10 3紫外发光二极管和激光二极管349
10 3 1UV LED350
10 3 2UV LD356
10 4透明UV探测器359
参考文献363
索引368
《半导体科学与技术丛书》已出版书目376
彩图377
作者介绍
文摘
序言
这本书的阅读,对我来说,更像是在经历一场思维的“洗礼”。我最深刻的体会,是它对我关于“半导体”这一概念的认知进行了重塑。我之前对半导体的理解,大多集中在硅基材料及其应用上,而这本书则将我的视野拓展到了更为广阔的氧化物半导体领域。它让我认识到,除了我们熟知的元素半导体,许多化合物,特别是氧化物,同样拥有优异的半导体特性,并且在很多方面展现出独特的优势。书中对不同类型氧化物半导体(如n型和p型)的形成机制、掺杂特性以及电子输运机制的深入探讨,彻底颠覆了我原有的认知。我被书中关于p型氧化物半导体研究的艰难历程和最新突破所吸引,这让我看到了科学研究中不断挑战极限、追求突破的精神。这本书不仅仅是知识的传递,更是一种思维的引导,它鼓励我去质疑现有的知识体系,去探索未知,去发现新的可能性,这种对学术探索精神的启发,是我在这本书中最宝贵的收获。
评分这本书的内容对我来说,更像是一次探索未知的旅程,而不是一次轻松愉快的阅读。当我翻开它时,我预设了自己将要面对的是一系列复杂而精深的理论,但实际的阅读体验,却远超我的想象。书中对于不同晶体结构下氧化物半导体的电子行为的描述,简直是触及到了材料科学的本质。我尤其对其中关于缺陷的形成和对导电性的影响的章节印象深刻。作者用非常严谨的语言,结合大量的实验数据和理论模型,将这些微观层面的变化清晰地呈现在我面前。这让我意识到,看似简单的材料,其背后蕴含着多么复杂的物理化学原理。很多时候,我需要反复阅读几遍,才能勉强抓住作者的思路。这并非因为文字本身难以理解,而是因为其所涉及的概念深度实在是太大了,很多内容需要我不断地去查阅相关的背景知识,去构建一个更完整的知识体系。读这本书,与其说是学习,不如说是在进行一场头脑的风暴,每一次的阅读都像是对大脑的一次极限挑战,但也正是这种挑战,让我体验到了知识海洋的浩瀚与深邃。
评分当我开始阅读这本书时,我并没有预料到它会在我的专业领域之外,给我带来如此大的震撼。我对其中关于透明导电氧化物(TCOs)在光电器件中的发展历程和最新进展的讨论尤为着迷。书中的内容,让我看到了材料科学是如何一步步推动着显示技术、太阳能电池等领域的革命性变革。我了解到,从最初简单的掺杂金属氧化物,到如今各种新型的纳米结构TCOs,每一个进步都凝聚了无数科学家的智慧和努力。书中对不同TCOs材料的优缺点进行对比分析,并结合其在实际器件中的表现进行评价,让我对材料选择的权衡有了更深的理解。我尤其对书中关于如何平衡透明度、导电性和稳定性这些相互制约的性能指标的论述感到惊叹。这不仅仅是材料本身的特性,更是工程师们在实际应用中不断创新和优化的结果。阅读这本书,让我看到了材料科学的巨大潜力,以及它在解决人类社会面临的能源和环境挑战方面所扮演的关键角色。
评分说实话,这本书的阅读过程,更像是一次对科研思维方式的训练。我最受启发的部分,是书中对于不同氧化物半导体材料的性能表征和评价体系的阐述。作者并没有简单地给出一个结论,而是详细介绍了评估一种材料是否适合某种应用的完整流程,包括了从材料的晶体结构、能带结构,到载流子迁移率、击穿电压等一系列关键参数的测量方法和理论解释。这种严谨的科研态度,让我觉得受益匪浅。我特别喜欢书中对一些实验数据的呈现方式,它们通常伴随着详细的图表和分析,让读者能够清晰地看到实验结果与理论预测之间的联系。有时候,我会花很多时间去揣摩图表中的每一个细节,去理解作者是如何从这些数据中提炼出有价值的信息。这本书让我明白,科学研究不仅仅是理论推导,更需要扎实的实验基础和对数据的敏锐洞察力。它教会了我如何去审视科学问题,如何去构建逻辑链条,如何去区分有效信息和噪音,这些思维方式的训练,对我在其他领域的学习和工作都将产生长远的影响。
评分这本书给我的感受,就像是站在一个巨大的知识库前,而我只有一把钥匙,但钥匙只能打开其中的一扇小门。我非常感兴趣的是书中关于宽带隙氧化物半导体在高性能电子器件中的应用前景。它不仅仅是列举了几个例子,而是深入剖析了这些材料之所以能够胜任特定角色背后的微观机制。例如,在高温电子学领域,一些特定的氧化物半导体如何克服传统半导体的热击穿问题,其载流子输运的特性是如何在极端环境下保持稳定的,这些都让我大开眼界。书中提到的一些特殊的掺杂技术和制备工艺,更是引发了我对实际生产过程中的挑战和创新思路的思考。我注意到,作者在描述这些应用时,并非孤立地看待材料本身,而是将其置于整个器件设计和工作原理的宏观框架下进行解读,这使得我对这些前沿技术的理解更加全面和立体。尽管我不是材料制备领域的专业人士,但书中的这些内容,无疑为我打开了一扇了解未来电子技术发展方向的窗口,让我对科技的进步有了更深刻的认识和更广阔的想象空间。
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