内容简介
本书系统地介绍了典型红外增透保护薄膜材料的制备、结构、性能、表征及应用。全书共十章,包括红外透过材料基础、红外增透保护薄膜的服役环境、膜系的光学设计、典型制备方法、非晶金刚石、碳化锗、磷化硼、氧化铝、氧化钇以及红外透明导电薄膜等内容。这本《激光与物质相互作用的物理基础》简直是为高功率激光应用工程师量身定做的。它不像其他书籍那样侧重于激光器的内部结构,而是将焦点完全放在了激光束与目标材料接触时发生的复杂物理化学反应上。书中对非线性吸收机制的解析非常到位,从多光子吸收到隧道效应,都有详细的数学模型支撑,这对于理解材料在皮秒甚至飞秒脉冲下的损伤阈值至关重要。我尤其喜欢作者处理材料烧蚀过程的方式,他将热传导、相变、等离子体形成串联起来,形成了一个完整的物理链条,使得我们能跳出碎片化的理解,看到一个整体的演化过程。书中的实验数据图表质量很高,很多是直接引自顶尖期刊的最新成果,保证了内容的先进性。但是,我个人认为,在“超快激光诱导的表面微结构形成”这一热门领域,虽然有所涉及,但对等离子体尾场效应和瞬态的电磁场耦合作用分析得不够深入,这部分内容如果能更丰富一些,将会使这本书的价值更上一层楼。总的来说,这是一本硬核、专业、极具参考价值的学术著作。
评分这本新出的《光学设计原理与实践》可真是本厚重的家伙,光是翻阅目录就让人感到信息量的庞大。作者在开篇就非常扎实地介绍了经典的光学成像理论,从惠更斯原理到夫琅禾费衍射,每一步的推导都清晰可见,对于理解光波的传播特性至关重要。不过,对于初学者来说,其中关于非球面和自由曲面的数学描述部分,显得有些过于理论化了,需要反复对照公式才能勉强跟上作者的思路。我特别欣赏的是书中对于像差分析的细致讲解,特别是对彗差和像散的物理图像描述,让人一下子就明白了这些缺陷在实际成像中是如何体现的。而且,书中还配有大量的图示,这些图例不仅美观,更重要的是起到了极佳的辅助理解作用,比如那个对比不同光阑对场曲影响的示意图,我看了好几遍才真正领悟到其中的奥妙。全书的结构安排很合理,从基础理论到复杂系统设计,层层递进,看得出作者在教学经验上有很深的沉淀。不过,如果能在现代光学系统,比如自由电子激光或极端紫外光刻中的应用案例上再多加笔墨,那就更完美了,毕竟当前的研究热点都在向这些前沿领域倾斜。总而言之,这是一本可以作为专业工具书反复查阅的经典教材。
评分我最近在为我的下一项关于环境监测的小型光谱仪项目寻找合适的滤光片解决方案,因此翻阅了《薄膜光学与镀膜技术》。这本书的结构设计非常巧妙,前半部分系统回顾了麦克斯韦方程组在多层膜结构中的应用,特别是传输矩阵法,我把它当作一个速查手册来使用,效率极高。让我印象深刻的是其中关于等效膜系的概念引入,一下子将复杂的堆叠结构简化成了几个关键参数,极大地加速了我们对膜系设计的初步判断。书中对不同类型的膜系——比如带通、带阻、增反膜的结构设计原则,给出了非常具体的指导,甚至附带了大量“教科书式”的膜层序列,可以直接用于仿真软件验证。然而,对于现代镀膜设备,特别是高精度磁控溅射或电子束蒸发中的等离子体影响、靶材污染等实际操作问题,这本书的论述相对简略,更像是停留在“理想膜层”的层面。我期待在实际生产中,能有更多关于“如何控制镀膜过程中的薄膜应力和应变”的讨论,这本书在这方面略显不足。
评分我最近在研究微纳光学元件的制造工艺,无意中发现了这本《精密光学加工技术前沿》。这本书的重点似乎完全放在了“如何制造”而不是“如何设计”上,这一点与我预期的有些出入,但阅读下来却发现它提供了另一种宝贵的视角。书中详细描述了各种超精密研磨、抛光以及先进的激光直写技术,尤其是对离子束抛光(IBS)的介绍非常深入,包括设备的工作原理、工艺参数的控制,以及不同材料(如熔融石英、硫系玻璃)在其下的表现差异。特别值得称赞的是,作者没有回避制造过程中的实际难题,比如表面粗糙度的控制、亚表面损伤的检测与消除,这部分内容对于一线工程师来说简直是福音。有一章专门讨论了模具制造的精度对最终器件性能的影响,图表丰富,数据翔实,让人不得不重视“源头控制”的重要性。然而,书中对于新近出现的增材制造在光学领域的应用,比如基于光固化树脂的快速原型制作,着墨不多,略显保守。总体来说,这本书更偏向于硬核的工艺手册,对于想了解当前最高制造水平的同行来说,绝对是案头必备,但如果期待看到大量的理论创新,可能会略感失望。
评分坦白说,我对《半导体光电器件物理》这本书的初版印象并不太好,总觉得内容陈旧,但新版更新的幅度实在令人惊喜。这次的修订版显著加强了量子点、二维材料在光电器件中的应用章节。特别是对钙钛矿太阳能电池的发光机制和载流子输运特性的分析,引入了最新的密度泛函理论计算结果,使得解释更有说服力。作者在阐述PN结的能带图时,采用了一种非常直观的“电势能”视角,这帮助我清晰地理解了载流子分离的驱动力。更重要的是,书中花了大量的篇幅讲解了器件的电学和光学表征方法,包括IV曲线、EQE/IQE的测量与拟合,这些实操层面的知识点非常实用,让原本只懂理论的我,现在对实验室的测试流程有了更系统的认知。唯一的遗憾是,关于器件寿命和长期稳定性方面的讨论,似乎还是停留在现象描述层面,对于深层的失效机理探讨得不够透彻,这在当前追求实用化的背景下是个不小的短板。尽管如此,作为一本覆盖了从基础物理到器件工程的综合性教科书,它的价值依然是无可替代的。
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