半导体薄膜技术与物理（材料科学与工程 第2版）/高等院校材料专业系列规划教材 [Physics and Technology of Semiconductor Thin Films(Materials Science and Engineering)] pdf epub mobi txt 电子书 下载 2025

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叶志镇，吕建国，吕斌，张银珠 著

图书标签:

• 半导体
• 薄膜技术
• 材料科学
• 材料工程
• 物理
• 半导体物理
• 薄膜材料
• 高等教育
• 教材
• 纳米技术

出版社： 浙江大学出版社

ISBN：9787308139106

版次：2

商品编码：11612952

包装：平装

丛书名： “十二五”普通高等教育本科国家级规划教材 ，

外文名称：Physics and Technology of Semiconductor Thin Films(Materials Science and Engineering)

开本：

编辑推荐

　　《半导体薄膜技术与物理（第2版）/“十二五”普通高等教育本科国宝规划教材》介绍半导体薄膜的真空技术；物理气相沉积技术（PVD）；化学气相沉积技术（CVD）；分子束外延技术；液相外延技术等内容。

内容简介

　　《半导体薄膜技术与物理（材料科学与工程 第2版）/高等院校材料专业系列规划教材》全面系统地介绍了半导体薄膜的各种制备技术及其相关的物理基础。全书共分十章。第一章概述了真空技术，第二至第八章分别介绍了蒸发、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、液相外延、湿化学合成等各种半导体薄膜的沉积技术，第九章介绍了半导体超晶格、量子阱的基本概念和理论，第十章介绍了典型薄膜半导体器件的制备技术。
　　《半导体薄膜技术与物理（材料科学与工程 第2版）/高等院校材料专业系列规划教材》文字叙述上力求做到深入浅出，内容上深度和宽度相结合，理论和实践相结合，以半导体薄膜技术为重点，结合半导体材料和器件的性能介绍，同时还介绍了半导体薄膜技术与物理领域的新概念、新进展、新成果和新技术。
　　《半导体薄膜技术与物理（材料科学与工程 第2版）/高等院校材料专业系列规划教材》具有内容翔实、概念清楚、图文并茂的特点。
　　《半导体薄膜技术与物理（材料科学与工程 第2版）/高等院校材料专业系列规划教材》读者对象广泛，可作为高等院校材料、物理、电子、化学等学科的研究生或高年级本科生的半导体薄膜技术课程的教材，也可作为从事半导体材料、薄膜材料、光电器件等领域的科研人员、工程技术人员的参考书籍。

作者简介

　　叶志镇，男，1955年5月生于浙江温州。1987年获浙江大学光仪系工学博士学位；毕业后留校工作，1990～1992年留学美国麻省理工学院（MIT）；1994年晋升为教授；1996年选为博导。现为浙江大学材料与化学工程学院副院长、浙江大学纳米中心主任。1988年进入浙江大学材料系，在硅材料国家重点实验室一直从事半导体薄膜教学科研工作，主要研究方向：Zn0薄膜材料制备、物性调控及光电应用；纳米薄层材料高真空CVD技术研发及应用。现兼任国家自然科学基金委信息科学部评审组成员，全国电子材料专委副主任，全国半导体与集成技术、半导体材料和半导体物理专委委员等。

内页插图

目录

第1章 真空技术
1.1 真空的基本概念
1.1.1 真空的定义
1.1.2 真空度单位
1.1.3 真空区域划分
1.2 真空的获得
1.3 真空度测量
1.3.1 热传导真空计
1.3.2 热阴极电离真空计
1.3.3 冷阴极电离真空计
1.4 真空度对薄膜工艺的影响
参考文献

第2章 蒸发技术
2.1 发展历史与简介
2.2 蒸发的种类
2.2.1 电阻热蒸发
2.2.2 电子束蒸发
2.2.3 高频感应蒸发
2.2.4 激光束蒸发
2.2.5 反应蒸发
2.3 蒸发的应用实例
2.3.1 Cu（In，Ga）Se2薄膜
2.3.2 ITO薄膜
参考文献

第3章 溅射技术
3.1 溅射基本原理
3.2 溅射主要参数
3.2.1 溅射阈和溅射产额
3.2.2 溅射粒子的能量和速度
3.2.3 溅射速率和淀积速率
3.3 溅射装置及工艺
3.3.1 阴极溅射
3.3.2 三极溅射和四极溅射
3.3.3 射频溅射
3.3.4 磁控溅射
3.3.5 反应溅射
3.4 离子成膜技术
3.4.1 离子镀成膜
3.4.2 离子柬成膜
3.5 溅射技术的应用
3.5.1 溅射生长过程
3.5.2 溅射生长ZnO薄膜的性能
参考文献

第4章 化学气相沉积
4.1 概述
4.2 硅化学气相沉积
4.2.1 CVD反应类型
4.2.2 CVD热力学分析
4.2.3 CVD动力学分析
4.2.4 不同硅源的外延生长
4.2.5 成核
4.2.6 掺杂
4.2.7 外延层质量
4.2.8 生长工艺
4.3 CVD技术的种类
4.3.1 常压CVD
4.3.2 低压CVD
4.3.3 超高真空CVD
4.4 能量增强CVD技术
4.4.1 等离子增强CVD
4.4.2 光增强CVD
4.5 卤素输运法
4.5.1 氯化物法
4.5.2 氢化物法
4.6 MOCVD技术
4.6.1 MOCVD简介
4.6.2 MOCVD生长GaAs
4.6.3 MOCVD生长GaN
4.6.4 MOCVD生长ZnO
4.7 特色CVD技术
4.7.1 选择外延CVD技术
4.7.2 原子层外延
参考文献

第5章 脉冲激光沉积
5.1 脉冲激光沉积概述
5.2 PLD的基本原理
5.2.1 激光与靶的相互作用
5.2.2 烧蚀物的传输
5.2.3 烧蚀粒子在衬底上的沉积
5.3 颗粒物的抑制
5.4 PLD在Ⅱ-Ⅵ族化合物薄膜中的应用
5.4.1 Zn0薄膜的PLD生长
5.4.2 其他Ⅱ-Ⅵ族化合物的PLD生长
参考文献

第6章 分子束外延
6.1 引言
6.2 分子束外延的原理和特点
6.3 外延生长设备
6.4 分子束外延生长硅
6.4.1 表面制备
6.4.2 外延生长
6.4.3 掺杂
6.4.4 外延膜的质量诊断
6.5 分子束外延生长Ⅲ-V族化合物半导体材料和结构
6.5.1 MBE生长GaAs
6.5.2 MBE生长InAs／GaAs
6.5.3 MBE生长GaN
6.6 分子束外延生长Ⅱ一Ⅵ族化合物半导体材料和结构
6.6.1 HgCdTe材料
6.6.2 CdTe／Si的外延生长
6.6.3 HgCdTe／Si的外延生长
6.6.4 ZnSe、ZnTe
6.6.5 ZnO薄膜
6.7 分子束外延生长其他半导体材料和结构
6.7.1 SiC材料
6.7.2 生长小尺寸Ge／Si量子点
6.7.3 生长有机半导体薄膜
参考文献

第7章 液相外延
7.1 液相外延生长的原理
7.1.1 液相外延基本概况
7.1.2 硅液相外延生长的原理
7.2 液相外延生长方法和设备
7.3 液相外延生长的特点
7.4 液相外延的应用实例
7.4.1 硅材料
7.4.2 Ⅲ-族化合物半导体材料
7.4.3 碲镉汞材料
7.4.4 SiC材料
参考文献

第8章 湿化学制备方法
8.1 溶胶一凝胶技术
8.1.1 Sol-Gel的生长机制
8.1.2 Sol-Gel的工艺过程
8.1.3 Sol-Gel合成TiO2薄膜
8.1.4 Sol-Gel的优点和缺点
8.2 喷雾热分解技术
8.2.1 喷雾热分解的种类
8.2.2 喷雾热分解的生长过程
8.2.3 喷雾热分解的应用介绍
8.2.4 喷雾热分解制备ZnO薄膜
8.3 液相电沉积技术
8.3.1 电沉积简介
8.3.2 电沉积制备类金刚石薄膜
参考文献

第9章 半导体超晶格和量子阱
9.1 引言
9.2 半导体超晶格、量子阱的概念和分类
9.2.1 组分超晶格
9.2.2 掺杂超晶格
9.2.3 应变超晶格
9.2.4 调制掺杂超晶格
9.3 半导体超晶格、量子阱的量子特性
9.3.1 量子约束效应
9.3.2 量子隧穿和超晶格微带效应
9.3.3 共振隧穿效应
9.4 半导体超晶格、量子阱的结构和器件应用介绍
9.4.1 GaAs／AlxGa1-xAs体系
9.4.2 ZnSe基异质结、量子阱结构
参考文献

第10章 半导体器件制备技术
10.1 衬底材料的清洗
10.2 发光二极管
10.2.1 GaN基LED
10.2.2 ZnO基LED
10.2.3 白光LED
10.3 薄膜晶体管
10.3.1 薄膜晶体管的工作原理
10.3.2 非晶硅薄膜晶体管
10.3.3 多晶硅薄膜晶体管
10.3.4 有机薄膜晶体管
10.3.5 ZnO薄膜晶体管
10.4 光电探测器
10.4.1 光电导探测器
10.4.2 肖特基型光电探测器
10.4.3 p-n结型光电探测器
10.4.4 改进型光电二极管
参考文献

前言/序言

《半导体薄膜技术与物理》（材料科学与工程 第2版）是一部系统深入介绍半导体薄膜领域知识的著作，旨在为高等院校材料专业学生及相关领域的研究人员提供扎实的理论基础和前沿的技术视野。本书紧密结合材料科学与工程学科的发展趋势，聚焦于半导体薄膜这一在现代电子信息技术中占据核心地位的关键材料。 全书内容涵盖了半导体薄膜的制备技术、物理特性、器件应用以及新兴发展方向。在制备技术方面，本书详细阐述了多种主流的薄膜生长方法，包括但不限于化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、分子束外延（MBE）、原子层沉积（ALD）等。对于每种技术，书中不仅介绍了其基本原理、工艺流程、设备构成，还深入分析了影响薄膜质量的关键参数，如温度、压力、气氛、前驱体选择、基底准备等，并讨论了不同制备技术在制备特定类型半导体薄膜（如单晶、多晶、非晶）时的优劣势和适用范围。此外，针对大规模集成电路制造中的关键步骤，如薄膜的掺杂、刻蚀、钝化等工艺，本书也进行了详尽的介绍。 在薄膜物理特性部分，本书重点剖析了半导体薄膜所表现出的独特物理现象及其形成机理。这包括薄膜的晶体结构、相变行为、应力效应、界面物理、输运特性（如电子和空穴的导电性、载流子迁移率、散射机制）、光学性质（如吸收、透射、反射、折射）、电学性质（如介电常数、电导率、击穿电压）以及磁学和热学特性等。书中结合了量子力学、固体物理学、半导体物理学等基础理论，对薄膜中存在的尺寸效应、表面效应、量子限制效应等进行了深入的探讨。尤其强调了薄膜微观结构（如晶界、位错、点缺陷、杂质分布）对其宏观物理性能的影响，并提供了相关的表征手段和分析方法，如X射线衍射（XRD）、透射电子显微镜（TEM）、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）、拉曼光谱、光致发光（PL）、X射线光电子能谱（XPS）、紫外光电子能谱（UPS）等。 针对器件应用，本书系统介绍了半导体薄膜在各类电子器件中的关键作用。具体而言，本书深入探讨了薄膜在晶体管（如MOSFETs、FinFETs）、二极管、光电器件（如太阳能电池、LEDs、光探测器）、传感器、存储器件（如相变存储器、铁电存储器）以及MEMS器件等中的应用。书中解释了不同半导体薄膜材料（如硅、化合物半导体、宽禁带半导体、有机半导体、二维材料等）如何通过其独特的电学和光学性质，实现特定的器件功能。同时，本书也关注了薄膜在高性能、高集成度、低功耗等方面的技术挑战，以及如何通过优化薄膜材料和制备工艺来提升器件性能和可靠性。 此外，本书紧随学科前沿，对新兴发展方向进行了展望。这包括了对下一代半导体材料（如III-V族、II-VI族化合物半导体，以及氧化物半导体、二维材料如石墨烯、过渡金属硫化物等）的深入研究，以及它们在超越摩尔定律时代的先进器件中的潜力。同时，本书也探讨了半导体薄膜在柔性电子、可穿戴设备、生物电子学、光子学以及新能源技术（如固态电池、催化剂）等新兴交叉领域的应用前景。 本书结构清晰，逻辑严谨，语言精炼，既有理论高度，又有实践指导意义。每章结束后通常会配备习题，帮助读者巩固所学知识。第二版在保留第一版核心内容的基础上，根据近年来半导体薄膜技术与物理研究的最新进展，对部分章节进行了更新和补充，增加了新的研究成果和技术应用案例，使其更具时效性和参考价值。本书适合作为高等院校材料科学与工程、微电子学、物理学等专业本科生和研究生的教材或参考书，也是半导体材料、器件、工艺等领域的研究人员和工程师的宝贵参考资料。

评分☆☆☆☆☆

作为一本“高等院校材料专业系列规划教材”，它的定位显然是面向教学和科研。我希望这本书的语言风格是严谨而不失清晰的，既能满足专业研究生的需求，也能让高年级本科生有所受益。书中会不会提供一些习题或者案例分析，帮助读者巩固所学知识，检验学习效果？这些辅助性的教学内容，对于提升学习的深度和广度是非常有帮助的。如果这本书能够成为我学习和研究路上的得力助手，那将是对我而言最有价值的评价。

评分☆☆☆☆☆

我一直在寻找一本能够帮助我理解不同半导体薄膜材料之间差异的书。比如，硅、砷化镓、氮化镓、氧化锌等，它们各自有什么独特的物理化学性质？在制备过程中又有哪些特殊的挑战和要求？书中会不会对这些主流的半导体薄膜材料进行系统的梳理和比较，从晶体结构、能隙、载流子迁移率、击穿电压、光学带隙等多个维度进行深入分析，并阐述它们在不同应用领域的优势和局限性？这将极大地拓宽我的视野，帮助我选择合适的材料来解决特定的工程问题。

评分☆☆☆☆☆

物理部分的内容也是我关注的焦点。半导体薄膜的性能，归根结底是由其内在的物理特性决定的。书中会深入探讨哪些半导体物理概念？比如载流子的输运机制、能带结构、光学特性、表面和界面效应等等。对于这些复杂的物理现象，我希望书中能够提供清晰的解释和严谨的推导，同时辅以必要的数学模型和仿真结果，以便我能够更好地理解薄膜的电学行为和光学响应。尤其是一些前沿的物理现象，如量子限制效应、激子等，如果书中能有详细的介绍，那将是巨大的惊喜。

评分☆☆☆☆☆

这本书的结构安排，从我初步浏览的感受来看，是相当系统和有逻辑的。它似乎是从最基础的半导体材料特性讲起，然后逐步深入到各种薄膜的制备技术，再到相关的物理原理和器件应用。这种由浅入深、层层递进的讲解方式，非常适合像我这样想要系统性地学习半导体薄膜技术的人。我注意到书中大量的图表和公式，这些都是学术著作不可或缺的元素，它们不仅直观地展示了抽象的概念，也为深入研究提供了理论基础。我猜测，书中对不同薄膜材料的比较分析，以及它们在不同应用场景下的优劣势的阐述，一定会非常精彩，能够帮助读者快速建立起对整个领域的宏观认识。

评分☆☆☆☆☆

我特别期待书中在“制备技术”部分的内容。我一直对薄膜的生长机理非常感兴趣，比如CVD、PVD、MBE等技术，它们是如何在原子层面精确地控制薄膜的厚度和结构，从而实现特定的电学、光学或磁学性能的？书中会不会详细介绍这些技术的原理、设备、工艺参数对薄膜质量的影响，以及它们各自的优缺点和适用范围？我希望能够看到一些具体的实验案例或者研究成果，通过实际的例子来加深理解，而不是仅仅停留在理论层面。毕竟，理论联系实际是学习技术类知识的关键。

评分☆☆☆☆☆

书中对“材料科学与工程”这个学科背景的体现，我也很期待。半导体薄膜技术是材料科学和工程学科的一个重要分支，它融合了物理、化学、材料学、电子学等多个领域的知识。我希望这本书能够清晰地展示这种学科交叉的特点，例如，在讨论制备技术时，会不会涉及相关的化学反应动力学和热力学原理？在分析薄膜性能时，又是否会结合材料的微观结构和缺陷对宏观性质的影响？这种综合性的视角，能够帮助我更好地理解材料科学在工程应用中的重要性。

评分☆☆☆☆☆

这本书的封面设计着实吸引人，那种沉稳而又不失科技感的蓝色调，配合上清晰的书名和系列标识，瞬间就让我觉得这是一本内容扎实的学术著作。我拿到这本书的时候，首先就被它厚实的装帧和纸张的质感所打动，那种略带哑光的纸张，即使在强光下阅读，也不会感到刺眼，触感也相当舒适，这对于需要长时间阅读的专业书籍来说，无疑是加分项。我尤其欣赏的是它印刷的清晰度，无论是文字还是图表，都非常锐利，即使是那些复杂的半导体器件结构图，也能清晰地呈现出每一个细节，这对于理解那些微观世界的运作原理至关重要。

评分☆☆☆☆☆

这本书的“应用”部分，我猜想一定涵盖了当前半导体薄膜技术在各个领域的最新进展。我非常好奇书中会介绍哪些具体的器件，比如LED、激光器、太阳能电池、晶体管、传感器等。它们是如何利用半导体薄膜的特性来实现功能的？书中会不会详细讲解这些器件的工作原理，以及薄膜在其中扮演的关键角色？我希望能够看到一些实际的器件结构图和性能指标，这有助于我将理论知识与实际应用联系起来，了解半导体薄膜技术是如何驱动现代科技发展的。

评分☆☆☆☆☆

我非常注重一本书的参考文献和索引。一本好的专业书籍，其参考文献列表往往是通往更深层次研究的宝藏，而详细准确的索引则能帮助读者快速定位所需信息。我期待这本书能够提供一个详尽的参考文献列表，涵盖经典文献和最新的研究成果，方便我进行进一步的学术探索。同时，一个条理清晰、检索方便的索引，能够大大提高我的阅读效率，让我在查找特定概念、技术或材料时，能够迅速找到相关章节，避免大海捞针的烦恼。

评分☆☆☆☆☆

对于我这样从事相关领域研究的学生来说，一本权威的教材不仅是知识的来源，更是思维的启迪。我希望这本书能够提供一些启发性的思考，引导我从更宏观的角度去审视半导体薄膜技术的发展趋势和未来挑战。例如，书中是否会讨论一些尚未解决的科学难题，或者预测未来可能出现的新技术和新材料？这些前瞻性的内容，对于培养科研人才至关重要，能够激发我的创新思维，让我对未来的研究方向有一个更清晰的认识。

评分☆☆☆☆☆

这个对半导体宝膜的制备有很大的帮助，可以入手

评分☆☆☆☆☆

质量可以，是正品

评分☆☆☆☆☆

京东自营的书有时候会有污渍，不知道那里来的。。。下次注意呀，这本书应该是个介绍类型的^_^还没仔细看。。。哈哈哈哈

评分☆☆☆☆☆

挺好的………………………

评分☆☆☆☆☆

得看后面讲的结果来判断好坏。

评分☆☆☆☆☆

质量可以，是正品

评分☆☆☆☆☆

从事半导体行业值得一看的书。

评分☆☆☆☆☆

速度非常快，书的质量也不错，值得推荐。

评分☆☆☆☆☆

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