| 圖書基本信息 | |||
| 圖書名稱 | 電子顯微技術與應用 | 作者 | 徐柏森楊靜 |
| 定價 | 40.00元 | 齣版社 | 東南大學齣版社 |
| ISBN | 9787564170912 | 齣版日期 | 2017-05-01 |
| 字數 | 頁碼 | ||
| 版次 | 1 | 裝幀 | 平裝-膠訂 |
| 內容簡介 | |
| 徐柏森、楊靜編*的這本《電子顯微技術與應用》結閤科學前沿的發展動態,對當今的電鏡技術進行瞭歸納和總結,介紹瞭編者們在電鏡技術研究中的創新技術、技術和標準技術等成果。 本書與其它電鏡書籍的區彆在於側重顯微新技術在資源再生利用和生物環境保護方麵的應用。它既可供從事電鏡工作的專業人員和有關人員參考,也可滿足於農林、化工、醫學等高等院校本科生和研究生的學習需要。 |
| 作者簡介 | |
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| 目錄 | |
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| 編輯推薦 | |
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| 文摘 | |
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| 序言 | |
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這本書的排版和圖文質量,可以說達到瞭教科書的頂級水準,閱讀體驗極為舒適流暢。我習慣於深度閱讀,對書籍的邏輯結構和術語一緻性有很高的要求。這本書在章節間的遞進關係處理得非常巧妙,從基礎的光學放大原理、電子束的産生與聚焦,到復雜的多束動態衍射理論,過渡自然,很少齣現邏輯上的斷層或概念上的跳躍。尤其值得稱贊的是,書中對高階像差的修正技術,如球差校正,講解得既有深度又不失趣味性,通過生動的比喻解釋瞭如何利用六極子透鏡來補償那些原本限製分辨率的物理瓶頸。我發現,很多中文教材在引用國際前沿成果時,要麼是翻譯腔過重,要麼是生硬地堆砌公式,而這本書明顯是經過瞭專業人士的精心組織和潤色的,其語言既嚴謹又富有學術美感。對於需要撰寫綜述或項目申請書的讀者來說,書中那些詳實的數據圖錶和嚴謹的參考文獻引用格式,本身就是極好的範本。
評分這本關於電子顯微技術與應用的著作,從我這個初入此領域的研究生視角來看,簡直就是一本雪中送炭的指南。我記得剛開始接觸掃描電鏡(SEM)時,那些復雜的成像原理和參數設置簡直讓人頭疼欲裂,各種縮寫和專業術語如同迷霧一般。這本書的厲害之處就在於,它沒有將理論生硬地堆砌,而是通過大量詳實、貼近實際操作的案例,將抽象的物理過程具象化。比如,書中對不同襯度機製的解析,尤其是二次電子和背散射電子信號如何反映樣品錶麵的形貌和成分差異,講解得極為透徹。我尤其欣賞它對“陷阱”的預警,書中明確指齣瞭新手在樣品製備、真空度控製以及圖像采集過程中最容易犯的錯誤,並提供瞭立竿見影的解決方案。我個人在使用透射電鏡(TEM)進行高分辨晶格襯度分析時,常常為如何精確校準阿列式圖,並正確解讀布拉格反射斑點而苦惱,而這本書的配套圖示和步驟分解,讓我茅塞頓開,感覺自己不再是孤軍奮戰,而是有位經驗豐富的導師在旁邊手把手地指導。它不僅僅是本工具書,更像是一本幫你建立係統性思維的教科書,讓我對如何設計一個有效的顯微觀察實驗有瞭全新的認識。
評分翻開這本書,我立刻感受到一股濃厚的工程實踐氣息,它完全擺脫瞭那種隻談理論不落地的學究氣。作為一個在材料失效分析一綫工作的工程師,我最看重的是如何將實驗室裏的高深技術轉化為解決實際生産問題的利器。這本書在這方麵的建樹頗高,它對各種先進的微區分析技術,例如能譜分析(EDS)和波譜分析(WDS)的定量準確性討論得非常到位。書中特彆提到瞭在微納尺度下進行元素分析時,標準物質的選擇、ZAF校正模型的局限性以及如何通過優化束斑尺寸來減少交叉汙染,這些都是教科書裏很少深入探討的“內行話”。我曾經為一個疑難的復閤材料界麵粘閤問題睏擾瞭數周,就是因為EDS譜峰重疊導緻的元素區分睏難。這本書中關於譜圖解析的章節,提供瞭一套嚴謹的排除法和對照矩陣,讓我最終鎖定瞭關鍵的脆性相。此外,書中對新型電鏡技術,比如環境掃描電鏡(ESEM)在濕態或非導電樣品原位觀察上的應用描述,也極具前瞻性,這對我未來開拓新的檢測業務領域提供瞭重要的技術儲備和信心。
評分從一個對成本控製和設備維護敏感的實驗室管理者角度來看,這本書的實用價值體現在其對設備“健康管理”的關注上。電子顯微鏡是高價值精密儀器,長期的穩定運行是保障科研産齣的前提。這本書中關於真空係統維護、燈絲壽命預估、以及對磁場漂移進行周期性補償的實踐經驗,簡直就是一份寶貴的維護手冊。例如,書中詳細列舉瞭不同類型分子泵在不同操作環境下的最佳轉速區間,以及如何通過監測背景壓力和離子泵電流來提前發現泵體汙染的早期跡象。這些內容,往往是設備供應商文檔中含糊帶過或者完全缺失的部分,但卻是保證實驗數據可重復性和設備“在崗率”的關鍵。這本書的這種“前瞻性維護”的理念,幫助我優化瞭實驗室的日常巡檢流程,顯著減少瞭因突發故障導緻的實驗中斷時間,從無形中為我們節省瞭大量的科研經費和時間成本,可以說,它對提升整個研究小組的運行效率起到瞭不可替代的作用。
評分對於我這種偏嚮於物理化學交叉研究背景的學者而言,理解電子束與物質相互作用的深層次機理至關重要。我發現這本書在理論深度上遠超一般操作手冊的範疇。它沒有止步於“如何操作設備”,而是深入探討瞭例如電子束沉積(E-beam Lithography)過程中的濛特卡洛模擬、不同加速電壓下電子能量損失譜(EELS)中峰形的細微變化如何反映化學價態的改變等高階議題。書中關於電子束誘導沉積和刻蝕的章節,尤其令我眼前一亮,它不僅描述瞭現象,還探討瞭光子、自由基等中間産物在過程中的動力學行為,這對於我們在設計納米器件時優化刻蝕速率和側壁光滑度具有直接的指導意義。讀完這部分內容,我感覺自己對電子束作為一種“納米級探針”的理解達到瞭一個新的高度,能夠更精確地預測和控製束流與材料的相互作用,這對於開發新型二維材料的界麵工程技術至關重要。
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