数码单反摄影用光与曝光完全学习手册 9787122124425 化学工业出版社 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2025

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iphoto 工作室著 著

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店铺： 花晨月夕图书专营店

出版社： 化学工业出版社

ISBN：9787122124425

商品编码：29928029731

包装：平装

出版时间：2012-01-01

基本信息

书名：数码单反摄影用光与曝光完全学习手册

定价：59.80元

作者：iphoto 工作室著

出版社：化学工业出版社

出版日期：2012-01-01

ISBN：9787122124425

字数：337000

页码：202

版次：1

装帧：平装

开本：16开

商品重量：0.4kg

编辑推荐

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内容提要

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　光是摄影的灵魂，摄影离不线，可以说没有光就不会有摄影。本书针对数码摄影的用光与曝光技法进行了详细的讲解，使读者能够快速掌握摄影用光与曝光的方法与技巧，从而拍摄出更为精彩的照片。
本书共13 章，第1 章～第3章介绍了光线对摄影的重要作用，并详细讲解了摄影中的光线和色彩相关知识；第4 章深入讲解了测光和曝光的相关技法；第5章介绍了滤镜、闪光灯、反光板等与用光有关的摄影器材和附件；第6 章～第8章分别讲解了自然光场景、人造光场景、混合光与现场光场景的用光技巧；第9 章～第13章从实拍角度出发，对风景、人像、动物、植物、静物、夜景等常见拍摄题材的用光方法与技巧进行了全面剖析。
本书实例典型、丰富，每张照片均包含拍摄参数、拍摄心得、用光分析等内容，既有深入浅出的摄影理论知识讲解，也照顾到了读者实际拍摄的需求。读者可以通过本书的学习，深入理解和掌握摄影用光与曝光技法，运用所学的知识拍摄出理想的照片。

目录

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作者介绍

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文摘

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序言

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探索微观世界的奥秘：晶体结构与材料科学基础 内容提要： 本书深入浅出地探讨了固体材料的微观世界，重点聚焦于晶体结构的基本原理、晶体缺陷的形成与影响，以及这些结构特征如何决定了材料宏观性能的差异。全书共分为七章，内容涵盖了晶体学的基本概念、点阵理论、晶体生长过程、缺陷对电子和力学性能的调控作用，并辅以丰富的实例，阐述了晶体结构在现代电子器件、结构陶瓷和功能材料开发中的核心地位。本书旨在为材料科学、物理学、化学工程以及相关领域的本科高年级学生和研究生提供一本全面且深入的参考读物。 第一章 固体物理学导论与晶体学的基石 (约200字) 本章首先回顾了凝聚态物质的基本分类，明确了晶体与非晶态固体在原子排列上的本质区别。随后，引入了晶体学的基础工具——空间点阵和晶胞的概念。详细讲解了七大晶系、布拉维点阵的种类及其在描述常见金属和无机化合物中的应用。通过解析密堆积结构（如面心立方、六方最密堆积）的几何特征，为理解材料的堆垛层错和形变机制奠定了坚实的几何基础。本章强调了对称性在晶体结构描述中的关键作用，并初步介绍了指数系统（如密勒指数）在晶面和晶向识别上的便利性。 第二章 倒易空间与晶体衍射理论 (约250字) 理解晶体的周期性结构，必须借助倒易空间的概念。本章深入探讨了傅里叶变换在描述晶体周期性中的应用，详细推导了倒易点阵的定义及其与实空间点阵之间的关系。核心内容聚焦于X射线衍射（XRD）原理。我们详细分析了布拉格方程的物理意义，并阐述了如何利用衍射斑点的强度和位置来确定晶体的精确晶格参数、晶体结构类型以及微观应变状态。本章还涉及了电子衍射和中子衍射的特点，对比了它们在结构分析中的优势与局限，特别是如何利用电子衍射进行薄膜结构分析。 第三章 晶体生长与相变动力学 (约250字) 材料的性能与其生长历史息息相关。本章剖析了晶体生长的热力学与动力学过程。从均相成核和非均相成核的理论模型出发，解释了晶体生长初期的形核速率。接着，重点讨论了固-液界面下的原子附着机制，区分了光滑界面和粗糙界面下的生长模式（如螺旋生长、层状生长）。此外，本章还涉及了固态下的晶体相变，包括一阶和二阶相变的热力学判据，以及相变过程中形核和长大所需的能垒，为理解退火和热处理工艺对材料微观结构的影响提供了理论支撑。 第四章 晶体缺陷的分类与热力学 (约250字) 完美的晶体只存在于理论之中，实际材料的性能主要由缺陷决定。本章系统分类了晶体缺陷，包括零维缺陷（点缺陷，如空位、间隙原子、取代原子）、一维缺陷（线缺陷，如位错）、二维缺陷（面缺陷，如晶界、孪晶界）和三维缺陷（聚集体、孔洞）。重点分析了点缺陷的热力学平衡浓度，并计算了形成各种点缺陷所需的结合能。对于位错，详细阐述了边缘位错和螺型位错的几何结构、应变场分布，以及它们在晶体塑性变形中的核心作用。 第五章 缺陷对材料力学性能的调控 (约250字) 晶体缺陷，尤其是位错，是决定金属和陶瓷材料力学行为的关键因素。本章将理论缺陷模型与宏观力学现象相结合。首先，解释了位错的运动机制——滑移和攀移，以及它们如何导致材料的塑性流动。随后，深入探讨了位错之间的相互作用，包括位错塞积（Pile-up）现象及其对加工硬化的贡献。详细分析了固溶强化、晶粒细化强化（Hall-Petch关系）和沉淀强化等强化机制的微观根源，所有这些机制本质上都是通过阻碍位错运动来实现的。 第六章 缺陷对电子与光学性能的影响 (约200字) 本章探讨晶体缺陷如何作为散射中心或局域能级，显著改变半导体、绝缘体和光学材料的本征性能。对于半导体材料，重点分析了杂质原子和空位在禁带中引入的浅能级或深能级，它们是电荷载流子（电子和空穴）的复合中心或陷阱态，直接影响材料的电导率和光电转换效率。此外，还讨论了晶界和位错对载流子迁移率的散射效应，以及在光学材料中，点缺陷如何导致颜色中心（F-中心）的形成，从而影响材料的吸收和发光光谱。 第七章 功能材料中的结构控制 (约100字) 最后，本章将前述的结构与缺陷原理应用于现代功能材料的实际开发。通过分析铁电材料中的电畴结构、磁性材料中的磁畴壁运动受到的晶界影响，以及高介电常数材料中离子排列的精确控制，展示了“结构决定性能”的材料科学核心思想。本章作为总结，强调了通过精确控制生长条件和后处理工艺，实现对特定晶体结构和缺陷分布的工程化调控，是设计新型高性能材料的必由之路。

评分☆☆☆☆☆

作为一名业余摄影爱好者，我一直对光线的运用和曝光的掌控感到头疼。市面上的摄影书籍很多，但我总觉得难以找到一本既系统又实用的。最近入手了一本《数码单反摄影用光与曝光完全学习手册》，虽然我还没有深入研读，但仅从目录和开篇章节来看，我就已经被它深深吸引了。 这本书最让我惊喜的一点是，它并没有直接抛出晦涩难懂的专业术语，而是从摄影最基础的“光”出发，循序渐进地讲解。它详细剖析了不同光源的特性，例如自然光在一天不同时段的变化，以及室内人造光的各种应用，比如柔光箱、反光伞的使用技巧。我尤其喜欢它用大量实际案例来说明如何利用不同光线来塑造景物的立体感和氛围感。书中的图示非常丰富，而且讲解清晰易懂，即便是初学者也能迅速理解。我一直觉得摄影就是“画光”，这本书恰恰解答了我对“如何画出好光”的困惑。它不仅讲了“为什么”，更讲了“怎么做”，这一点对于实操性很强的摄影来说至关重要。期待后续章节能带我更深入地探索曝光的奥秘，将理论转化为我镜头下的精彩画面。

评分☆☆☆☆☆

作为一个对摄影有着极高追求的爱好者，我一直在寻找一本能够真正提升我作品质感的书籍。我深知，再好的相机，如果不懂得如何运用光线和控制曝光，也无法拍出令人惊艳的照片。这本书的标题——“完全学习手册”，以及“用光与曝光”的字眼，正是我一直以来所寻求的。 我翻阅了书中关于测光模式的讲解，以及白平衡的设置。这部分内容对于我来说尤为重要。我经常在拍摄时遇到曝光不准确的问题，尤其是在光线复杂的环境下。这本书似乎提供了一套系统化的解决方案，从理解测光原理到掌握各种测光模式的应用，再到如何根据场景调整白平衡，都讲解得非常细致。它还提到了直方图的运用，这一点我非常感兴趣，因为我一直觉得直方图是一个神秘的工具，不懂得如何去解读和运用。这本书的出现，无疑为我打开了一扇新的大门，让我看到了提升摄影技术的希望。

评分☆☆☆☆☆

这本书不仅仅是一本技术指南，更像是一本摄影美学的启蒙读物。我非常欣赏作者在讲解技术的同时，融入了对摄影艺术的理解。它强调了“为什么”要这样做，而不是仅仅告诉读者“怎么做”。 书中对于不同场景下用光的策略分析，让我受益匪浅。比如，在拍摄人像时，如何利用光线勾勒出人物的面部轮廓，营造出温馨或神秘的氛围；在拍摄风景时，如何利用逆光、侧光来突出景物的层次感和质感。这些讲解都非常具有启发性。我一直觉得，摄影不仅仅是记录，更是表达。而用光和曝光，正是摄影师表达情感和思想的重要手段。这本书似乎能够帮助我更好地理解这一点，并将其运用到我的摄影实践中。

评分☆☆☆☆☆

这本书的装帧和纸质都相当不错，拿在手里很有分量感。我是一个喜欢边看书边做笔记的人，所以书籍的内页排版是否舒适非常重要。这本书的排版设计我很满意，文字大小适中，留白也恰到好处，阅读起来不会感到疲劳。更吸引我的是，它似乎对相机本身的一些设置也有所涉及，比如光圈、快门速度、ISO等基本参数的调整，以及它们与曝光之间的联动关系。我一直觉得，摄影技巧的掌握离不开对相机操作的熟悉，这本书能够将理论知识与实际操作结合起来，这让我倍感期待。 它不仅仅是一本关于“用光”的书，更像是一本关于“如何看懂光、驾驭光”的指南。书中很多关于光线方向、硬度和色彩的讲解，都让我豁然开朗。我一直以来都觉得自己的照片总是“平”的，缺乏生命力，可能就是因为我没有真正理解和运用好光线。这本书似乎提供了一个解决之道，它鼓励读者去观察身边的光，去感受光，然后有意识地去运用光。书中的一些小贴士和练习建议，也非常实用，能够帮助我巩固所学的知识。相信通过这本书的学习，我的摄影水平一定能得到质的飞跃。

评分☆☆☆☆☆

对于我这样时间不充裕的摄影爱好者来说，一本能够高效学习的图书至关重要。这本书给我最直观的感受就是它的条理清晰和逻辑性强。 从目录来看，它将复杂的用光和曝光知识分解成一个个小的、易于理解的单元，并通过循序渐进的方式进行讲解。这使得我在学习过程中不会感到 overwhelming。我尤其看重书中对于“曝光补偿”和“包围曝光”的讲解。这两项技术是我一直以来掌握得不太好的地方，导致很多时候需要后期大量调整。这本书似乎能够提供更系统、更深入的指导，帮助我直接在拍摄时就获得更准确的曝光。此外，它还可能包含一些关于不同镜头和光圈组合对曝光和景深的影响的讨论，这些都是我非常想深入了解的内容。总的来说，这本书给我带来了信心，相信它能帮助我快速有效地掌握用光与曝光的核心技术。