产品几何技术规范标准汇编：几何公差 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2025

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全国产品几何技术规范标准化技术委员会，中国标准出版社 编

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• 产品几何
• 几何公差
• 技术标准
• 机械设计
• 制造工艺
• 质量控制
• GD&T
• 工程制图
• 尺寸公差
• 技术规范

出版社： 中国标准出版社

ISBN：9787506675819

版次：1

商品编码：11565352

包装：平装

开本：16开

出版时间：2014-08-01

页数：527

正文语种：中文

内容简介

　　《产品几何技术规范标准汇编：几何公差》收集了截至2014年5月底以前批准发布的几何公差标准共28项。包括：GB／T118220086产品几何技术规范（GPS）几何公差形状、方向、位置和跳动公差标注》；GB／T113362004《直线度误差检测》和GB／T16671-2009《产品几何技术规范（GPS）几何公差最大实体要求、最小实体要求和可逆要求》等内容。

目录

GB／T 1182—2008产品几何技术规范（GPS）—几何公差—形状、方向、位置和跳动公差标注
GB／T 1184—1996形状和位置公差—未注公差值
GB／T 1958—2004产品几何量技术规范（GPs）—形状和位置公差—检测规定
GB／T 4380—2004圆度误差的评定—两点、三点法
GB／T 7234—2004产品几何量技术规范（GPS）—圆度测量—术语、定义及参数
GB／T 7235—2004产品几何量技术规范（GPS）—评定圆度误差的方法—半径变化量测量
GB／T 11336—2004直线度误差检测
GB／T 11337—2004平面度误差检测
GB／T 13319—2003产品几何量技术规范（GPS）—几何公差—位置度公差注法
GB／T 16671—2009产品几何技术规范（GPS）—几何公差—最大实体要求、最小实体要求和可逆要求
GB／T 16892—1997形状和位置公差—非刚性零件注法
GB／T 17773—1999形状和位置公差延伸公差带及其表示法
GB／T 17851—2010产品几何技术规范（GPs）—几何公差—基准和基准体系
GB／T 17852—1999形状和位置公差—轮廓的尺寸和公差注法
GB／T 18780．1—2002产品几何量技术规范（GPs）—几何要素—第1部分：基本术语和定义
GB／T 18780．2—2003产品几何量技术规范（GPS）—几何要素—第2部分：圆柱面和圆锥面的提取中心线、平行平面的提取中心面、提取要素的局部尺寸
GB／T 24630．1—2009产品几何技术规范（GPS）—平面度第1部分：词汇和参数
GB／T 24630．2—2009产品几何技术规范（GPS）—平面度—第2部分：规范操作集
GB／T 24631．1—2009产品几何技术规范（GPS）—直线度—第1部分：词汇和参数
GB／T 24631．2—2009产品几何技术规范（GPS）—直线度—第2部分：规范操作集
GB／T 24632．1—2009产品几何技术规范（GPS）—圆度—第1部分：词汇和参数
GB／T 24632．2—2009产品几何技术规范（GPS）—圆度—第2部分：规范操作集
GB／T 24633．1—2009产品几何技术规范（GPS）—圆柱度—第1部分：词汇和参数
GB／T 24633．2—2009—产品几何技术规范（GPs）—圆柱度—第2部分：规范操作集
GB／Z 24637．1—2009产品几何技术规范（GPS）—通用概念第l部分：几何规范和验证的模式
GB／Z 24637．2—2009产品几何技术规范（GPS）—通用概念第2部分：基本原则、规范、操作集和不确定度
JB／T 5996—1992圆度测量三测点法及其仪器的精度评定
JB／T 7557—1994同轴度误差检测

前言/序言

现代材料科学前沿探索：纳米结构与功能化表面技术 本书聚焦于21世纪材料科学领域最活跃、最具颠覆性的两个核心方向：纳米尺度的结构控制与功能化表面的精密设计。它并非专注于机械制造中的几何公差与测量标准，而是深入探讨如何通过对物质在纳米尺度上的精确调控，实现材料性能的革命性突破，以及这些技术在尖端应用中的实际部署。 --- 第一部分：纳米结构的构筑与表征（Nanostructure Fabrication and Characterization） 本部分旨在全面梳理当前制备和分析各类新型纳米结构的核心技术与理论基础，涵盖从零维到三维的各类结构，并强调其在光、电、磁学等功能特性中扮演的角色。 第一章：量子点与纳米晶体的精准合成 本章详述了用于光电器件、生物成像和催化剂的半导体量子点（QDs）和金属纳米晶体的化学合成方法。重点分析了溶液法（如热注射法、微乳液法）对粒径均匀性、形貌控制以及表面配体选择的影响机制。深入讨论了核壳结构（Core-Shell Structures）的构建策略，以钝化表面缺陷、提升量子产率和实现波长可调谐发光。此外，对新型钙钛矿量子点（Perovskite QDs）的合成挑战、稳定性问题及其在显示技术中的潜力进行了深入剖析。 第二章：低维材料的自组装与定向生长 本章侧重于二维（2D）和一维（1D）纳米材料，如石墨烯、过渡金属硫化物（TMDs）和碳纳米管（CNTs）的规模化制备与形貌控制。 石墨烯及其衍生材料： 详细阐述了化学气相沉积（CVD）技术在制备大面积、高质量单层石墨烯中的工艺参数优化，包括衬底选择（铜、镍箔）、碳源种类及反应温度对晶界形成的影响。同时，探讨了氧化还原法制备石墨烯氧化物（GO）及其还原过程的机理，以及GO在复合材料中的分散性挑战。 纳米线与纳米带的垂直阵列： 介绍了溶液外延法、模板辅助生长法和磁控溅射法在制备高密度、高垂直度的纳米结构阵列中的应用。重点讨论了各向异性生长所需的表面能调控和外延应力管理。 第三章：高分辨率纳米结构表征技术 准确的表征是理解纳米材料性能的关键。本章系统介绍了先进的显微镜技术及其在纳米尺度结构解析中的应用。 透射电子显微镜（TEM/STEM）： 强调了球差校正（Aberration-Corrected）TEM在解析晶格缺陷、界面结构和原子序列方面的能力。讨论了能量过滤TEM（EFTEM）和电子能量损失谱（EELS）在元素分布和化学价态分析中的应用。 原子力显微镜（AFM）的应用拓展： 不仅限于形貌成像，更深入讲解了利用力谱（Force Spectroscopy）测量纳米材料的机械性能（如弹性模量、粘附力）以及利用开尔文探针力显微镜（KPFM）绘制表面电势图，揭示电荷分布。 --- 第二部分：功能化表面与界面工程（Functionalized Surfaces and Interface Engineering） 本部分关注如何通过分子层面的设计和精确的表面修饰技术，赋予材料新的或增强的特定功能，特别是针对环境、能源和生物医学领域的需求。 第四章：自组装单分子层（SAMs）的构建与功能化 SAMs是实现表面精密功能化的基础技术之一。本章详细探讨了利用硫醇、硅烷和羧酸等分子在金属、氧化物或半导体基底上形成有序排列的单分子膜的化学过程。 界面相互作用控制： 分析了基底材料的表面能、环境湿度和分子链长度对SAMs覆盖度和有序性的影响。 功能性基团的引入： 讲解了如何通过在末端引入反应性基团（如-OH, -NH2, 叠氮基团）实现后续的生物分子固定、催化位点锚定或疏水/亲水性能的调控。 第五章：等离子体表面处理与薄膜沉积技术 本章集中于利用高能粒子或反应性气体实现材料表面的化学或物理改性，以提高其耐磨性、生物相容性或催化活性。 等离子体增强化学气相沉积（PECVD）与反应性溅射： 探讨了在低温下制备高质量、高致密性无机薄膜（如氮化钛、氧化铝）的工艺窗口。重点分析了等离子体参数（射频功率、气体流量、偏压）对薄膜的内应力、晶粒结构和表面粗糙度的调控机制。 大气压等离子体（APP）技术： 介绍了APP在处理热敏感基底（如聚合物、纺织品）时，实现快速、环保的表面亲水化或功能化接枝（Grafting）的优势与局限性。 第六章：多孔材料与界面的催化活性调控 本章深入探讨了如何设计具有高比表面积的多孔结构（如金属有机框架MOFs、介孔二氧化硅）的内外表面，以优化其在多相催化、气体吸附和分离中的性能。 孔道尺寸与拓扑结构的设计： 结合密度泛函理论（DFT）计算，分析了特定催化反应物分子与孔道壁活性位点之间的动力学和热力学匹配规律。 界面电子态工程： 讨论了通过元素掺杂或缺陷工程（如引入氮空位、氧空位）来调节材料的费米能级，从而影响电子转移速率和催化反应的活化能。 --- 第七章：跨学科应用案例分析（Interdisciplinary Applications） 本章将前两部分的技术与现代工程需求相结合，展示纳米结构和功能化表面在解决重大科学挑战中的实际应用。 能源转化： 详细分析了纳米结构电极在提高锂离子电池（如硅基负极的体积膨胀抑制）和燃料电池（如铂基纳米催化剂的载体稳定性）性能中的作用。 生物传感与靶向递送： 介绍了基于表面等离子体共振（SPR）的纳米传感器如何利用表面配体捕获生物标志物，以及如何通过pH敏感或酶响应性表面涂层实现药物在特定病灶部位的智能释放。 抗污与自清洁表面： 探讨了仿生学原理在构建超疏水（如荷叶效应）和超亲水表面中的应用，以及这些表面如何减少生物膜的附着和提高光学元件的清洁度。 本书的读者对象为高年级本科生、研究生以及从事材料科学、化学工程、微电子和生物医学工程领域的研发人员。它旨在提供一个扎实的理论框架和前沿的技术视野，指导读者在纳米尺度的工程实践中实现创新。

评分☆☆☆☆☆

这本书的结构安排，说实话，对于非专业人士来说，可能显得有些过于“百科全书式”和缺乏引导性。它似乎预设了读者已经对机械制图和基础几何学有着扎实的了解，直接切入了高度专业的术语和公式推导。在查阅特定公差符号（比如独立原则、最大实体要求等）时，虽然能迅速找到对应的条文，但上下文之间的逻辑衔接有时候显得有些跳跃，缺乏一个渐进式的学习路径。我希望书中能增加一个专门的“应用案例分析”章节，用实际的零件图来反向推导公差的制定逻辑，而不是仅仅罗列规则。例如，在讲解配合公差时，如果能加入一个具体的轴承安装或箱体连接的例子，说明公差选择如何直接影响最终的可靠性和制造成本，读者的代入感会强很多。目前来看，它更像是一本权威的“字典”或“法典”，而不是一本能手把手教你“如何做”的“教科书”。对于职场新人来说，如何将这些规范转化为实际的图纸语言，可能还需要他们自己去摸索。

评分☆☆☆☆☆

我翻阅这本书时，最直观的感受是它在内容深度上达到了一个相当高的水准，涵盖了从基础的尺寸链到高级的形位公差体系的几乎所有关键要素。这绝不是一本面向初学者的入门读物，更像是为资深工程师或质量控制人员量身定制的“兵器谱”。书中对于不同国际标准（比如ISO和ASME体系）之间的细微差异进行了对比分析，这一点对于处理跨国项目或者需要进行标准转换的工程师来说，价值无可估量。我特别关注了形位公差的测量原理部分，作者没有停留在简单的定义层面，而是深入探讨了基准的选取原则、测量仪器误差的控制，甚至连统计学在公差分析中的应用都有所涉及。这种深度意味着阅读和理解需要投入大量的时间和相关的背景知识，它更像是一部需要带着计算器和测量图纸来研读的专业手册，而不是轻松翻阅的指南。它成功地将工程实践中的“痛点”——那些在实际加工中经常产生争议的公差问题——提炼并纳入规范体系进行了解释。

评分☆☆☆☆☆

这本书的编辑和校对工作看起来非常严谨，尤其是在那些复杂的数学符号和公式表达上，几乎找不到任何笔误或排版错误，这对于技术规范类书籍是至关重要的“生命线”。我特地比对了几个关键的拟合算法描述，发现其表达的精确性是毋庸置疑的。然而，一个让我感到略微困惑的地方在于，尽管它汇编了大量标准，但关于如何处理“新兴制造技术”带来的公差挑战，信息显得有些滞后。例如，在增材制造（3D打印）环境下，由于材料的各向异性、层间结合力的不均一性，传统的基于减材制造的公差模型可能需要进行修正或补充。书中现有的大部分内容似乎仍然牢固地建立在传统的铣削、车削等工艺基础上，对于如何为激光熔融沉积（LMD）或选择性激光烧结（SLS）工艺设定合理的几何公差，缺乏明确的指导或讨论。这使得这部看似全面的汇编，在面对前沿的工程实践时，缺少了一点与时俱进的锐气。

评分☆☆☆☆☆

这本书的装帧和印刷质量确实值得称赞，纸张手感厚实，油墨清晰，排版也显得十分专业和严谨。作为一本技术规范汇编，它在实体呈现上给人一种可靠的信赖感，这对于需要经常查阅标准的用户来说至关重要。打开书本，首先映入眼帘的是清晰的目录结构，虽然内容本身聚焦于几何公差的复杂细节，但编排者显然花了不少心思梳理脉络，使得初次接触的用户也能大致把握全书的知识框架。不过，我个人在实际使用中发现，虽然规范本身是权威的，但对于那些依赖图示来理解抽象概念的读者来说，有些章节的插图数量或者精细度似乎还有提升空间。比如在讲解一些复杂特征关系时的截面图，如果能提供更多不同角度的立体透视图，对于深化理解无疑是极大的帮助。总而言之，从物理媒介的角度看，这是一本制作精良、适合长期保存和参考的工具书，为严谨的技术工作打下了良好的物质基础，尽管在教学辅助方面，也许还能更进一步优化用户体验。

评分☆☆☆☆☆

从实用工具的角度来看，这本书的价值毋庸置疑，它提供了一个统一的参照框架，避免了团队内部因标准理解不一而产生的巨大返工成本。不同部门的人员拿到这本书，可以确信他们讨论的是同一个“垂直度”的定义和范围。我非常欣赏其中关于“理论最小/最大要求”（TIR）计算方法的详细论述，这对于进行严格的公差分析（如蒙特卡洛模拟的前置数据准备）至关重要。但反过来说，这本书的“厚重感”也限制了它的便携性。我通常需要带着它去生产车间或检测实验室进行现场核对，但其尺寸和重量使得它在有限的工作空间内显得有些笨重，不太方便快速翻阅或放在工具箱里。如果未来能推出一个高度精简的、专注于核心图例和快速查询的袖珍版附录，或者配套一个内容更精炼的电子数据库，将能够极大地方便工程师在实际操作环境中的即时参考需求，提升其作为“现场工具”的实用效能。